In hightech industries, such as sem

In hightech industries, such as semiconductor and optoelectronic, acid
HF, HCl, HNO3, H2SO4 and basic NH3 gases are emitted in wafer
cleaning and wet-etching processes where large amount of these
chemicals are used

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในอุตสาหกรรม hightech, optoelectronic กรดและสารกึ่งตัวนำHF, HCl, HNO3 กำมะถัน และก๊าซ NH3 พื้นฐานออกในแผ่นเวเฟอร์ทำความสะอาดและเปียกกัดประมวลผลมีขนาดใหญ่จำนวนเหล่านี้มีใช้สารเคมี

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในอุตสาหกรรมไฮเทคเช่นเซมิคอนดักเตอร์และ optoelectronic กรด
HF, HCl, HNO3, H2SO4 และก๊าซ NH3 พื้นฐานที่ปล่อยออกมาในเวเฟอร์กระบวนการทำความสะอาดและการแกะสลักที่เปียกจำนวนมากเหล่านี้สารเคมีที่ถูกนำมาใช้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในอุตสาหกรรมไฮเทค เช่นเซมิคอนดักเตอร์และ optoelectronic
HF กรด HCl , กรดดินประสิวกรดซัลฟิวริกและก๊าซ , nh3 พื้นฐานจะถูกปล่อยออกมาในเวเฟอร์
ซักแห้งและแกะสลักเปียกกระบวนการที่จำนวนมากของสารเคมีเหล่านี้
ใช้