A WO3 seed layer was prepared by th

A WO3 seed layer was prepared by thermal oxidation, where aW-sputtered substrate was heated and oxidized
in a furnace.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

WO3 เมล็ดชั้นจัดทำ โดยความร้อนเกิดออกซิเดชัน ที่อึ้ง-sputtered พื้นผิวถูกความร้อน และออกซิไดซ์ในเตา

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ชั้นเมล็ด WO3 ถูกจัดทำขึ้นโดยการเกิดออกซิเดชันความร้อนที่พื้นผิว AW-sputtered ถูกความร้อนและออกซิเจน
ในเตาเผา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เป็น wo3 เมล็ดพันธุ์ชั้นถูกเตรียมโดยปฏิกิริยาความร้อนที่พื้นผิวเป็นแบบ AW sputtered ออกซิไดซ์ในเตาหลอม