After electrochemical etching, the

After electrochemical etching, the porous silicon substrate was thoroughly rinsed with deionized water to eliminate the remaining electrolyte from the porous structure.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หลังจากแกะสลักไฟฟ้า พื้นผิวรูพรุนซิลิคอนถูกอย่างล้างน้ำจุเพื่อกำจัดอิเล็กโทรไลท์ที่เหลือจากโครงสร้างรูพรุน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลังจากแกะสลักไฟฟ้า, พื้นผิวซิลิกอนที่มีรูพรุนได้รับการล้างให้สะอาดด้วยน้ำปราศจากไอออนเพื่อกำจัดอิเล็กที่เหลือจากโครงสร้างที่มีรูพรุน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หลังจากการกัดซิลิคอนรูพรุนของพื้นผิวทางเคมีไฟฟ้าคือให้ล้างด้วยน้ำเพื่อขจัดเซลล์คล้ายเนื้อเยื่อประสานที่เหลือจากโครงสร้างที่มีรูพรุน