Fig. 3. XRD patterns of samples tre

Fig. 3. XRD patterns of samples treated in gas mixture of 0.25%, 0.50%, 0.75% and 1.00%
CH4 in 80% H2+20% Ar. Samples treated at 723 K, for 4 h, gas mixture flow rate of
1.67×10−6 Nm3 s−1 and pressure of 400 Pa.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

มะเดื่อ 3. รูปแบบ XRD ของกลุ่มตัวอย่างรับการรักษาในส่วนผสมของก๊าซ 0.25%, 0.50%, 0.75% และ 1.00%
ใน CH4 80% H2 + 20% Ar ตัวอย่างรับการรักษาที่ 723 K, 4 ชั่วโมงอัตราการไหลของก๊าซส่วนผสมของ
1.67 × 10-6 Nm 3 s-1 และความดัน 400 Pa

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 3 วิเคราะห์รูปแบบของตัวอย่างการปฏิบัติในก๊าซผสมของ 0.25% 0.50% และ 0.75% ร่าง 1.00 %
ใน 80 % H2 20% AR . ตัวอย่างการรักษาคุณ K 4 H , อัตราการไหลของแก๊สผสม× 10 − 6 nm3
, s − 1 และความดัน 400 .