Figure 5.17 shows the SEM micrograp

Figure 5.17 shows the SEM micrographs of the cross section for YSZ films electrophoretically deposited onto NiO/YSZ substrate surface [113]. For YSZ powders deposited onto porous NiO/YSZ substrates whose reverse side is coated with conducting graphite layers, the YSZ powders are subsequently transferred into dense and continuouse films with thickness of 3-15 µm after co-firing with substrates(Figure 5.17a).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูปที่ 5.17 แสดง micrographs SEM ของส่วนข้ามสำหรับฟิล์ม YSZ electrophoretically ฝากลงบนพื้นผิวพื้นผิว NiO/YSZ [113] สำหรับผง YSZ ฝากลงบนพื้นผิว NiO/YSZ porous ด้านกลับถูกเคลือบ ด้วยทำชั้นแกรไฟต์ ผง YSZ โอนย้ายมาเป็นหนาแน่น และ continuouse ภาพยนตร์กับความหนาของ 3-15 µm หลังยิงร่วมกับพื้นผิว (รูป 5.17a)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปที่ 5.17 แสดงให้เห็นว่าไมโคร SEM ของส่วนข้ามสำหรับภาพยนตร์ YSZ ฝาก electrophoretically บน NiO / YSZ พื้นผิว [113] สำหรับผง YSZ ฝากลงบนที่มีรูพรุน NiO / YSZ พื้นผิวที่มีด้านหลังเคลือบด้วยการดำเนินการชั้นแกรไฟต์ผง YSZ จะถูกโอนต่อมาเป็นภาพยนตร์หนาแน่นและ continuouse มีความหนา 3-15 ไมโครเมตรหลังจากที่ร่วมยิงกับพื้นผิว (รูปที่ 5.17a)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

รูปที่ 5.17 แสดง SEM micrographs ของส่วนข้าม ซึ่งภาพยนตร์ electrophoretically ฝากลงบนพื้นผิววัสดุ ซึ่งนีโอ / [ 113 ] สำหรับผงพรุน ซึ่งฝากบนพื้นผิว ซึ่งนีโอ / ข้างกลับถูกเคลือบด้วยกราไฟท์ตามชั้นส่วนผง ซึ่งต่อมาโอนเข้ามาหนาแน่นและ continuouse ฟิล์มที่มีความหนา 2 µ M หลังจาก Co ยิงกับพื้นผิว ( รูป 5.17a )