(2) the liquid/colloidal-phase depo

(2) the liquid/colloidal-phase deposition such as EPD, sol-gel, slip-casting, and dip-coating method ; and (3) the particle deposition/consolidation methods such as taps casting, screen-printing, etc. physical vapor deposition techniques such as PLD and sputtering are generally expensive techniques from the point of view of equipment and have low deposition rate of a few nanometer per minute.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

(2) การสะสมของ เหลว/colloidal-ระยะเช่น EPD โซลเจล วิธีการจัดส่งหล่อ และจุ่มเคลือบ และ (3) วิธีการสะสม/รวมอนุภาคหล่อก๊อก screen-printing ฯลฯ เทคนิคการสะสมไอน้ำจริง PLD และพ่นเป็นเทคนิคโดยทั่วไปราคาแพงจากมุมมองของอุปกรณ์ และมีอัตราสะสมต่ำ nanometer กี่ต่อนาที

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

(2) ของเหลว / ทับถมคอลลอยด์เฟสเช่น EPD, โซ​​ลเจล, ใบหล่อและวิธีการจุ่มเคลือบ; และ (3) การสะสมของอนุภาค / วิธีการควบรวมกิจการเช่นก๊อกหล่อพิมพ์หน้าจอและอื่น ๆ เทคนิคการสะสมไอทางกายภาพเช่น PLD และสปัตเตอร์เป็นเทคนิคที่มีราคาแพงโดยทั่วไปจากมุมมองของอุปกรณ์และมีอัตราการสะสมต่ำของไม่กี่นาโนเมตร ต่อนาที

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

( 2 ) ของเหลวคอลลอยด์ระยะสะสมเช่น EPD โซล - เจลการหล่อและวิธีจุ่มเคลือบ และ ( 3 ) การรวมอนุภาค / วิธีการเช่นก๊อกหล่อ พิมพ์หน้าจอ ฯลฯ สะสมไอทางกายภาพเทคนิคเช่น PLD สโดยทั่วไปแพงและเทคนิคจากมุมมองของอุปกรณ์ และมี คะแนนสะสมน้อยไม่กี่นาโนเมตร ต่อ นาที