the resolutionof the imprint patter

the resolution
of the imprint pattern is determined by that of the mold
pattern. This means that a high-resolution mold is required to imprint
a high-resolution (22-nm half-pitch) pattern. The nanoimprint
mold is usually fabricated by electron beam lithography;
however, achieving high (

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การแก้ปัญหาของ imprint รูปแบบเป็นไปตามที่แม่พิมพ์รูปแบบการ หมายความ ว่า แม่พิมพ์มีความละเอียดสูงจำเป็นต้องตรามีความละเอียดสูง (22 nm แบบครึ่งพิตช์) รูปแบบการ Nanoimprintแม่พิมพ์โดยปกติหลังสร้าง โดยภาพพิมพ์หินลำแสงอิเล็กตรอนอย่างไรก็ตาม บรรลุสูง (< 10 nm) เป็นลวดลายละเอียดมากยาก

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความละเอียด
ของรูปแบบที่สำนักพิมพ์จะถูกกำหนดโดยที่ของแม่พิมพ์
รูปแบบ ซึ่งหมายความว่าแม่พิมพ์ความละเอียดสูงจะต้องประทับ
ความละเอียดสูง (22 นาโนเมตรครึ่งสนาม) รูปแบบ nanoimprint
แม่พิมพ์ถูกประดิษฐ์โดยปกติอิเล็กตรอนพิมพ์หินลำแสง;
แต่บรรลุสูง (<10 นาโนเมตร) รูปแบบความละเอียดค่อนข้าง
ยาก

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความละเอียด
ของสํานักพิมพ์รูปแบบจะถูกกำหนดโดยรูปแบบของแม่พิมพ์
. นี้หมายความว่าสถานที่แม่พิมพ์จะต้องประทับ
สูง ( 22 nm ครึ่งสนาม ) รูปแบบ การ nanoimprint
แม่พิมพ์มักจะประดิษฐ์โดยสาแหรกคานอิเล็กตรอน ;
แต่บรรลุสูง ( < 10 nm ) รูปแบบความละเอียดค่อนข้าง
ยาก