Regardless the MRR value of each ox

Regardless the MRR value of each oxidizer shown in Fig. 4, one must consider that when the experiment is carried out at pH-value 12, the H2O2 exists as hydroperoxide anion (HOO−), while Oxone and K2S2O8 exist as SO4−2. In fact, the dianionic species are solvated more strongly than the HOO− anion, which it could be the reason that a significant increase in the MRR is observed with H2O2. On the other hand, the increase in MRR of the K2S2O8, which respect to the Oxone, may be related to its higher oxidizing ability, according to their reduction potentials, which is higher for K2S2O8, as it has been pointed out previously.

Furthermore, one must take into account that the addition of oxidizers could modify the pH-value. In fact, under the experimental conditions of constant NaOH concentration initially used to obtain pH-value 12 and a variable oxidizer concentration, one must expect a change in the pH-value for H2O2 and Oxone, following eqs. (1), (2), (4) and (5), while for K2S2O8 the pH-value might be constant because no protons are released following eq. 3. These comments are supported by the experimental results shown on Fig. 5, where it can be obtained that the addition of K2S2O8 does not change the pH-value of the slurry. On the other hand, when Oxone concentration increases, the pH-value of the slurry considerably decreases. This behavior indicates that the K2S2O8 anions do not react with the OH− anions presents at this basic pH-value of 12 value, while both H2O2 and Oxone acts as proton donors behaving as acids against NaOH.

This pH-value variation in the polishing experiments for K2S2O8 and Oxone is relevant. It is well known that the chemical reaction at a liquid and solid interface depends on their contact angle, which in turn is related to several factors such as the pH-value of the slurry [20], being an useful method for understanding whether the nature of a surface is hydrophobic or hydrophilic [21]. It is important to note that redox potential dependence with pH-value and the influence of both factors on the efficiency of the polishing process is a complex matter. Nevertheless, we have tried to provide a possible explanation for the observed behavior. A complete and in depth physical chemical description of the phenomena falls out of the scope of our work.

Moreover, let us consider the following experimental facts for Oxone: (i) the increasing concentration of oxidizer implies a decrease in the pH-value (Fig. 5); (ii) the MRR decreases for increasing concentration of oxidizer, that is to say, for decreasing pH-value in accordance with point i (Fig. 4); (iii) the contact angle decreases when the pH-value increases [10] meaning that for a low contact angle value a hydrophobic solid–liquid surface takes place, while a high contact angle implies a hydrophilic surface [22]. Taking into account these comments shown in the diagram of Fig. 6, we could reach the conclusion that in the case of K2S2O8, where the pH-value is observed to be constant, the hydrophilic character of the surface does not change; while for Oxone, the surface character is hydrophobic for low value of pH-value and a hydrophilic for higher pH-values.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ไม่คำนึงถึงค่า MRR ของแต่ละ oxidizer ที่แสดงในรูป 4 หนึ่งต้องพิจารณาว่า เมื่อการทดลองที่ทำค่า pH 12, H2O2 ที่มีอยู่ในรูปไอออน hydroperoxide (HOO−), ในขณะที่ Oxone และ K2S2O8 อยู่เป็น SO4−2 ในความเป็นจริง สายพันธุ์ dianionic เป็น solvated อย่างยิ่งกว่าไอออน HOO− ซึ่งอาจเป็นเหตุผลที่ว่า เป็นที่สังเกตเพิ่ม MRR กับ H2O2 บนมืออื่น ๆ MRR ของ K2S2O8 ซึ่งเคารพการ Oxone การเพิ่มขึ้นอาจจะเกี่ยวข้องกับสามารถออกซิไดซ์สูง ตามศักยภาพของพวกเขา ซึ่งเป็นสูง K2S2O8 มันได้รับชี้ให้เห็นก่อนหน้านี้นอกจากนี้ หนึ่งต้องคำนึงถึงว่า การเพิ่ม oxidizers สามารถปรับเปลี่ยนค่า pH ในความเป็นจริง ภายใต้เงื่อนไขทดลองความเข้มข้น NaOH คงเริ่มใช้การรับ 12 ค่า pH และความเข้มข้นแปร oxidizer หนึ่งต้องคาดหวังการเปลี่ยนแปลงค่า pH สำหรับ H2O2 และ Oxone, eqs ต่อไป (1), (2), (4) และ (5), ในขณะที่สำหรับ K2S2O8 ค่า pH อาจจะคงเนื่องจากโปรตอนไม่ออกต่อ eq. 3 ความคิดเห็นเหล่านี้ได้รับการสนับสนุน โดยผลการทดลองแสดงในรูป 5 ที่จะสามารถได้รับการเพิ่ม K2S2O8 ไม่เปลี่ยนค่า pH ของสารละลาย บนมืออื่น ๆ เมื่อ Oxone ความเข้มข้นเพิ่มขึ้น ค่า pH ของสารละลายมากลดลง ลักษณะการทำงานนี้บ่งชี้ว่า K2S2O8 นไอออนทำปฏิกิริยากับนไอออน OH− แสดงที่นี้พื้นฐานค่า pH ค่า 12 ในขณะที่ H2O2 และ Oxone ทำหน้าที่เป็นผู้บริจาคโปรตอนพฤติกรรมที่เป็นกรดกับ NaOHนี้เปลี่ยนแปลงค่า pH ในการทดลองขัด K2S2O8 และ Oxone เกี่ยวข้อง เป็นที่ทราบกันดีว่า ปฏิกิริยาเคมีที่อินเตอร์เฟซของเหลว และของแข็งขึ้นอยู่กับมุมสัมผัสของพวกเขา ซึ่งจะเกี่ยวข้องกับปัจจัยหลายประการเช่นค่า pH ของสารละลาย [20], เป็นวิธีมีประโยชน์สำหรับการทำความเข้าใจว่าธรรมชาติของพื้นผิวเหนียวเหนอะหนะ หรือน้ำ [21] จำเป็นต้องทราบว่า พึ่งพาศักยภาพอกซ์กับค่า pH และอิทธิพลของปัจจัยทั้งสองในประสิทธิภาพของกระบวนการขัดจะเป็นเรื่องซับซ้อน อย่างไรก็ตาม เราได้พยายามให้คำอธิบายที่เป็นไปได้สำหรับสังเกตพฤติกรรม เสร็จสมบูรณ์ และในรายละเอียดทางกายภาพเคมีเชิงลึกของปรากฏการณ์อยู่นอกขอบเขตของงานของเรานอกจากนี้ ขอให้เราพิจารณาข้อเท็จจริงทดลองต่อไปนี้สำหรับ Oxone: (i) ความเข้มข้นที่เพิ่มขึ้นของ oxidizer หมายถึงการลดลงของค่า pH (รูป 5); (ii ลดลง) MRR สำหรับการเพิ่มความเข้มข้นของ oxidizer กล่าวคือ การลดค่า pH ตามชี้ i (รูป 4); (iii)มุมสัมผัสลดลงเมื่อค่า pH เพิ่มขึ้น [10] ความหมายว่า สำหรับค่ามุมสัมผัสต่ำ พื้นผิวของแข็ง – ของเหลวที่เหนียวเหนอะหนะเกิดขึ้น ในขณะที่มุมติดต่อสูงหมายถึงผิวน้ำ [22] คำนึงถึงความคิดเห็นเหล่านี้แสดงในแผนภาพ 6 รูป เราสามารถเข้าถึงข้อสรุปที่กรณี K2S2O8 ซึ่งเป็นที่สังเกตค่า pH ให้คงที่ ลักษณะของพื้นผิวน้ำไม่เปลี่ยนแปลง ในขณะที่สำหรับ Oxone อักขระ surface เป็นฝ่ามือสำหรับค่าต่ำสุดของค่า pH และน้ำสำหรับค่า pH สูงขึ้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

โดยไม่คำนึงถึงค่า MRR ของแต่ละสันดาปที่แสดงในรูป 4 หนึ่งต้องพิจารณาว่าเมื่อการทดลองจะดำเนินการที่ค่า pH 12 H2O2 ที่มีอยู่เป็นไฮโดรแอนไอออน (HOO-) ในขณะที่ Oxone และ K2S2O8 อยู่เป็น SO4-2 ในความเป็นจริงชนิด dianionic จะ solvated รุนแรงกว่าไอออน HOO- ซึ่งมันอาจจะเป็นเหตุผลที่มีการเพิ่มขึ้นอย่างมีนัยสำคัญในอัตราดอกเบี้ย MRR เป็นที่สังเกตด้วย H2O2 บนมืออื่น ๆ เพิ่มขึ้นในอัตราดอกเบี้ย MRR ของ K2S2O8 ซึ่งความเคารพต่อ Oxone ที่อาจจะเกี่ยวข้องกับความสามารถในการออกซิไดซ์ที่สูงขึ้นตามศักยภาพการลดลงของพวกเขาซึ่งเป็นที่สูงขึ้นสำหรับ K2S2O8 ขณะที่มันได้รับการชี้ออกมาก่อนหน้านี้. นอกจากนี้ หนึ่งจะต้องคำนึงถึงว่านอกเหนือจากออกซิไดเซอร์อาจปรับเปลี่ยนค่า pH ในความเป็นจริงภายใต้เงื่อนไขการทดลองของความเข้มข้นของ NaOH คงใช้ครั้งแรกที่จะได้รับค่า pH ที่ 12 และความเข้มข้นของสารออกซิไดตัวแปรหนึ่งต้องคาดหวังว่าการเปลี่ยนแปลงในค่า pH สำหรับ H2O2 และ Oxone, EQS ดังต่อไปนี้ (1) (2) (4) และ (5) ในขณะที่สำหรับ K2S2O8 ทำให้ค่า pH อาจจะมีอย่างต่อเนื่องเพราะไม่มีโปรตอนจะถูกปล่อยออก EQ ดังต่อไปนี้ 3. ความคิดเห็นเหล่านี้ได้รับการสนับสนุนโดยผลการทดลองแสดงให้เห็นในรูป 5 ซึ่งจะสามารถรับได้ว่านอกเหนือจาก K2S2O8 ไม่เปลี่ยนแปลงค่า pH ของสารละลาย ในทางตรงกันข้ามเมื่อ Oxone ความเข้มข้นเพิ่มขึ้นทำให้ค่า pH ของสารละลายลดลงอย่างมาก พฤติกรรมเช่นนี้แสดงให้เห็นว่าแอนไอออน K2S2O8 ไม่ทำปฏิกิริยากับแอนไอออน OH- นำเสนอนี้พื้นฐานค่า pH ของ 12 คุ้มค่าในขณะที่ทั้งสอง H2O2 และ Oxone ทำหน้าที่เป็นผู้บริจาคโปรตอนทำตัวเป็นกรดกับ NaOH. นี้การเปลี่ยนแปลงค่า pH ในการทดลองขัด สำหรับ K2S2O8 และ Oxone มีความเกี่ยวข้อง เป็นที่ทราบกันดีว่าปฏิกิริยาทางเคมีที่มีอินเตอร์เฟซของเหลวและของแข็งขึ้นอยู่กับมุมสัมผัสของพวกเขาซึ่งจะเกี่ยวข้องกับปัจจัยหลายอย่างเช่นค่า pH ของสารละลาย [20] เป็นวิธีการที่มีประโยชน์สำหรับการทำความเข้าใจว่าธรรมชาติ ของพื้นผิวคือไม่ชอบน้ำหรือชอบน้ำ [21] มันเป็นสิ่งสำคัญที่จะทราบว่าการพึ่งพาอาศัยศักยภาพรีดอกซ์ที่มีค่า pH และอิทธิพลของปัจจัยทั้งในประสิทธิภาพของขั้นตอนการขัดที่เป็นเรื่องที่ซับซ้อน แต่เราได้พยายามที่จะให้คำอธิบายที่เป็นไปได้สำหรับการสังเกตพฤติกรรม คำอธิบายทางเคมีที่สมบูรณ์และในเชิงลึกทางกายภาพของปรากฏการณ์ตกอยู่นอกขอบเขตของการทำงานของเรา. นอกจากนี้ให้เราพิจารณาข้อเท็จจริงการทดลองต่อไปนี้สำหรับ Oxone: (i) ความเข้มข้นที่เพิ่มขึ้นของการสันดาปหมายถึงการลดลงของค่า pH (รูป . 5) (ii) MRR ลดลงสำหรับการเพิ่มความเข้มข้นของสารออกซิไดนั่นคือจะบอกว่าการลดค่า pH ให้สอดคล้องกับจุดฉัน (รูปที่ 4.); (iii) มุมสัมผัสจะลดลงเมื่อเพิ่มขึ้นค่า pH [10] หมายความว่าสำหรับค่ามุมสัมผัสต่ำพื้นผิวของแข็งของเหลวชอบน้ำที่เกิดขึ้นในขณะที่มุมสัมผัสสูงหมายถึงพื้นผิว hydrophilic [22] โดยคำนึงถึงความคิดเห็นเหล่านี้แสดงในแผนภาพของมะเดื่อ 6 เราจะไปถึงข้อสรุปว่าในกรณีของ K2S2O8 ที่ค่า pH เป็นที่สังเกตให้คงที่ตัวละครที่ชอบน้ำของพื้นผิวไม่เปลี่ยนแปลง; ในขณะที่สำหรับ Oxone ตัวอักษรพื้นผิวที่เป็นชอบน้ำสำหรับค่าต่ำของค่า pH และชอบน้ำสูงขึ้นค่า pH ค่า