The results show two kinds of defor

The results show two kinds of deformations, including narrow waves of the surface, due to the embedment of nanospheres to the photoresist, and irregular ups and downs in surface structure, which could be caused by fabrication process faults. This approach provides a simple and efficient way to measure the morphological parameters in flat nanometre-sized structures.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ผลลัพธ์แสดง deformations รวมคลื่นแคบของพื้นผิว จาก embedment ของ nanospheres photoresist และดอน ๆ ไม่สม่ำเสมอในโครงสร้างผิว ซึ่งอาจเกิดจากข้อบกพร่องของกระบวนการผลิตสองชนิด วิธีการนี้แสดงวิธีง่าย และมีประสิทธิภาพการวัดพารามิเตอร์ในโครงสร้างที่แบน nanometre ขนาดสัณฐาน

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ผลการศึกษาพบสองชนิดของรูปร่างรวมทั้งคลื่นแคบ ๆ ของพื้นผิวที่เกิดจากการฝังของ nanospheres ไปไวแสงที่ผิดปกติและ ups และดาวน์ในโครงสร้างพื้นผิวซึ่งอาจจะเกิดจากความผิดพลาดในกระบวนการผลิต วิธีการนี​​้ให้เป็นวิธีที่ง่ายและมีประสิทธิภาพในการวัดค่าพารามิเตอร์ทางสัณฐานวิทยาในโครงสร้างนาโนเมตรขนาดแบน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พบสองชนิดของรูปร่าง รวมทั้งคลื่นแคบของผิวเนื่องจากการฝังตัวของ nanospheres กับระบบและ ups และดาวน์ในโครงสร้างผิวที่ผิดปกติ ซึ่งอาจเกิดจากความผิดพลาดในกระบวนการผลิต วิธีการนี้ให้ง่ายและวิธีที่มีประสิทธิภาพเพื่อวัดพารามิเตอร์ทางสัณฐานวิทยาในนาโนเมตรแบนขนาดโครงสร้าง