.Historically, various chemical cle

.Historically, various chemical clean and etch processes were used, but wafers are now usually supplied “epi-ready”, with a volatile oxide film on the surface that protects the surface from contamination and can be thermally removed within the UHV chamber. RHEED is used to confirm the cleanliness of the surface prior to growth.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

. อดีต เคมีต่าง ๆ สะอาด และกัดใช้กระบวนการ แต่เวเฟอร์ตอนนี้มักจะให้มา "epi พร้อม" กับภาพยนตร์ระเหยออกไซด์บนผิวปกป้องผิวจากมลภาวะ และสามารถนำความร้อนออกของช่อง UHV ใช้ RHEED เพื่อ confirm ความสะอาดของพื้นผิวก่อนที่จะเจริญเติบโต

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

.Historically ต่างๆสารเคมีทำความสะอาดและจำหลักกระบวนการถูกนำมาใช้ แต่ช็อคโกแลตอยู่ในขณะนี้มักจะให้มา "EPI-พร้อม" กับ LM ออกไซด์ Fi ระเหยบนพื้นผิวที่ช่วยปกป้องผิวจากการปนเปื้อนและสามารถลบออกความร้อนภายในห้อง UHV RHEED จะใช้ในการ con Fi RM ความสะอาดของพื้นผิวก่อนที่จะมีการเจริญเติบโต