Their concentration has beencalcula

Their concentration has been
calculated from the intensity of the Cr 2p, Fe 2p, Ni 2p, O
1s, C 1s and Si 2p lines. Using the procedure described in a
previous work [7] and the estimation made there concerning
the sputtering rate under analogous experimental conditions
(3 keV, 16mAcm−2, angle of incidence 45_), one may estimate
roughly the thickness of the deposited chromium oxide
layer. From the sputtering time in Fig. 2 (ca. 200 min)
needed for reaching the oxide-substrate interface, it follows
that the layer thickness is of the order of 50 nm.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ความเข้มข้นของพวกเขาได้รับคำนวณความเข้มของ Cr 2p, Fe 2p, Ni 2p, O1s, C 1s และซีพี 2 บรรทัด ใช้กระบวนงานที่อธิบายไว้ในการก่อนหน้างาน [7] และการประเมินทำให้มีเกี่ยวกับอัตรา sputtering ภายใต้เงื่อนไขการทดลองคู่(3 keV, 16mAcm−2, 45_ มุมของอุบัติการณ์), หนึ่งอาจประเมินประมาณความหนาของออกไซด์โครเมียมนำฝากชั้น จากเวลา sputtering ใน Fig. 2 (ca. 200 นาที)จำเป็นสำหรับการเข้าถึงอินเทอร์เฟซสำหรับพื้นผิวออกไซด์ เป็นไปตามที่ความหนาของชั้นลำดับ 50 nm

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ความเข้มข้นของพวกเขาได้รับการคำนวณจากความรุนแรงของ Cr 2p ที่เฟ 2p, Ni 2p โอ 1s, C 1s และศรี 2p สาย ใช้ขั้นตอนที่อธิบายในการทำงานก่อนหน้า [7] และการประมาณการดังกล่าวทำให้มีเกี่ยวกับอัตราสปัตเตอร์ภายใต้เงื่อนไขการทดลองคล้าย(3 เคฟ 16mAcm-2, มุมตกกระทบ 45_) หนึ่งอาจประเมินประมาณความหนาของโครเมียมออกไซด์ฝากที่ชั้น. ตั้งแต่ครั้งสปัตเตอร์ในรูป 2 (แคลิฟอร์เนียได้ 200 นาที) ที่จำเป็นสำหรับการเข้าถึงอินเตอร์เฟซออกไซด์พื้นผิวได้เป็นไปตามที่ความหนาของชั้นเป็นคำสั่งของ 50 นาโนเมตร

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ความเข้มข้นของพวกเขาได้รับ
คำนวณจากความเข้มของ 2p Cr Fe 2p , Ni 2p O
1s 1s ศรี 2p , C และสาย โดยใช้ขั้นตอนที่อธิบายไว้ในก่อนหน้านี้ทำงาน
[ 7 ] และได้มีการประเมินเกี่ยวกับอัตราภายใต้เงื่อนไขการทดลองเดียวกัน

สปัตเตอริง ( 3 เคฟ 16macm − 2 มุมของ 45_ อุบัติการณ์ ) , หนึ่งอาจประมาณการ
ประมาณความหนาของฝากโครเมียมออกไซด์
ชั้นจากเวลาทำงานในรูปที่ 2 ( ประมาณ 200 นาที )
ที่จําเป็นสําหรับถึงออกไซด์ ( อินเตอร์เฟซ มันเป็นไปตามที่ความหนาของชั้น

สั่ง 50 nm .