Silicon is ordinarily rather unreac

Silicon is ordinarily rather unreactive. It is attacked by halogens giving tetrahalides, and by alkalis giving solutions of silicates. It is not attacked by acids except hydrofluoric ; presumably the stability of SiF62- provides the driving force here.
Germanium is somewhat more reactive than silicon and dissolves in concentrated H2SO4 andHNO3. Tin and lead dissolve in several acids and are rapidly attacked by halogens. They are slowly attacked by cold alkali, rapidly by hot, to form stannates and plumbites. Lead often appears to be more noble and unreactive than would be indicated by its standard potential of more noble and unreactive than would be indicated by its standard potential of -0.13 V. This low reactivity can be attributed to a high overvoltage for hydrogen and also. In some instances, to insoluble surface coatings. Thus lead is not dissolved by dilute H2so4 and concentrated HCI

COMPOUNDS OF GROUP IV ELEMENTS

15-3
Hydrides,MH4
These are colorless gases. Only monosilane, SiH4 is of any importance. This spontaneously flammable gas is prepared by the action of LiAIH4 on Si02 at 150-170° or by reduction of SiCI4 with LiAIH4 in an ether. Although stable to water and dilute acids, rapid base hydrolysis gives hydrated SiO2 and H2.
Substituted silanes with organic groups are of great importance, as are some closely related tin compounds (Chapter 29). The most importance reaction of compounds with Si−H bonds, such as HISiCI3 or HSiCH3 , is the Speier or hydrosilation reaction of alkenes:
สมการ
This reaction, which employs chloroplatinic acid as a catalyst, is commercially important for the synthesis of precursors to silicones.
15-4
Chlorination of the group IV elements on heating gives colorless or yellow (PbCI4) liquids. They are hydrolyzed by water eventually to the hydrous oxides but partial hydrolysis can give oxochlorides. In presence of aqueous HCI the chlorides of Ge, Sn, and Pb give chloroanions,and GeCI4 differs from SiCI4 in that it can be distilled and separated from concentrated HCI. The principle uses of SiCI4 and GeCI4 are in synthesis of the pure elements and for silicon and tin, in the synthesis of organo compounds (Chapter 29)

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ซิลิคอนเป็นปกติค่อนข้าง unreactive มันถูกโจมตี โดย halogens ให้ tetrahalides และ alkalis ให้โซลูชั่นของ silicates ไม่ได้โจมตี โดยกรดยกเว้นไฮโดรฟลูออริก สันนิษฐานว่าความมั่นคงของ SiF62 - ให้เป็นแรงผลักดันที่นี่
เจอร์เมเนียมมีปฏิกิริยาค่อนข้างมากกว่าซิลิคอน และละลายใน andHNO3 กำมะถันเข้มข้น ดีบุกและตะกั่วละลายในกรดต่าง ๆ และมีโจมตีอย่างรวดเร็ว โดย halogens พวกเขาจะช้าโจมตีเย็นด่าง อย่างรวดเร็วโดยร้อน การ stannates แบบฟอร์ม และ plumbites เป้าหมายมักปรากฏจะโนเบิล และ unreactive กว่าจะระบุ โดยศักยภาพมาตรฐานของโนเบิล และกว่าจะระบุ โดยศักยภาพมาตรฐานของ-0.13 V unreactive มากขึ้น สามารถบันทึกเชิงนิเวศน์นี้ต่ำ overvoltage สูงสำหรับไฮโดรเจน และยังได้ ในบางกรณี การเคลือบพื้นผิวที่ไม่ละลายน้ำ ดังนั้นลูกค้าเป้าหมายไม่ได้ส่วนยุบ โดย dilute กำมะถัน และเข้มข้น hci

สารประกอบกลุ่ม IV องค์

15-3
Hydrides, MH4
เหล่านี้เป็นก๊าซไม่มีสี เพียง monosilane, SiH4 เป็นสำคัญใด ๆ ก๊าซไวไฟธรรมชาตินี้จะเตรียมไว้ โดยการดำเนินการของ LiAIH4 บน Si02 ที่ 150-170 องศา หรือลดของ SiCI4 กับ LiAIH4 มีอีเทอร์ แม้มีน้ำและกรด dilute ไฮโตรไลซ์ฐานอย่างรวดเร็วช่วยให้ผลิตภัณฑ์ SiO2 และ H2
Substituted ควบกับกลุ่มเกษตรอินทรีย์มีความสำคัญ เป็นสารประกอบดีบุกบางที่เกี่ยวข้องอย่างใกล้ชิด (บทที่ 29) ที่สุดสำคัญปฏิกิริยาของสารประกอบกับพันธบัตร Si−H เช่น HISiCI3 หรือ HSiCH3 มีปฏิกิริยา Speier หรือ hydrosilation ของ alkenes:
สมการ
ปฏิกิริยานี้ ที่มีกรด chloroplatinic เป็นเศษเป็น มีความสำคัญในเชิงพาณิชย์สำหรับสังเคราะห์ precursors กับซิลิโคน
15-4
คลอรีนกลุ่ม IV องค์ประกอบในการทำความร้อนทำให้ของเหลว (PbCI4) ไม่มีสี หรือสีเหลือง พวกเขาจะ hydrolyzed สุดเพื่อออกไซด์รัตน แต่ไฮโตรไลซ์บางส่วนสามารถให้ oxochlorides ในของ hci ที่อควี คลอไรด์ ของ Ge, Sn, Pb ให้ chloroanions และ GeCI4 แตกต่างจาก SiCI4 ที่สามารถกลั่น และแยกจาก hci เข้มข้น ใช้หลักการของ SiCI4 และ GeCI4 เป็นในการสังเคราะห์องค์ประกอบบริสุทธิ์ และซิลิคอนและกระป๋อง ในการสังเคราะห์สารชำนาญ (บทที่ 29)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ซิลิกอนเป็นปกติค่อนข้างปฏิกิริยา มันถูกโจมตีโดยฮาโลเจนให้ tetrahalides และด่างให้โซลูชั่นของซิลิเกต มันจะไม่โจมตีโดยกรดยกเว้น hydrofluoric; สันนิษฐานว่าเสถียรภาพของ SiF62- มีแรงผลักดันที่นี่
เจอร์เมเนียมเป็นค่อนข้างมากปฏิกิริยากว่าซิลิกอนและละลายในความเข้มข้น H2SO4 andHNO3 ดีบุกและนำไปละลายในกรดหลายคนและถูกโจมตีอย่างรวดเร็วโดยฮาโลเจน พวกเขาถูกโจมตีอย่างช้าๆโดยด่างเย็นได้อย่างรวดเร็วโดยร้อนในรูปแบบ stannates และ plumbites นำมักจะปรากฏที่จะมีเกียรติและปฏิกิริยาเกินกว่าจะเห็นได้จากที่มีศักยภาพมาตรฐานของมากขึ้นเกียรติและปฏิกิริยาเกินกว่าจะเห็นได้จากที่มีศักยภาพมาตรฐานของ -0.13 V. นี้ปฏิกิริยาต่ำสามารถนำมาประกอบกับแรงดันไฟฟ้าสูงสำหรับไฮโดรเจนและยัง ในบางกรณีที่จะเคลือบผิวที่ไม่ละลายน้ำ จึงนำไม่ได้เลือนหายไปจากเจือจาง H2SO4 และเข้มข้น HCI สารประกอบของกลุ่ม IV ELEMENTS 15-3 ไฮ, MH4 เหล่านี้เป็นก๊าซไม่มีสี เพียง monosilane, SiH4 มีความสำคัญใด ๆ นี้ก๊าซไวไฟเป็นธรรมชาติที่จัดทำขึ้นโดยการกระทำของ LiAIH4 ใน Si02 ที่ 150-170 °หรือโดยการลดลงของ SiCI4 กับ LiAIH4 ในอีเทอร์ แม้ว่ากรดที่มีความเสถียรในน้ำและเจือจาง, ไฮโดรไลซิฐานอย่างรวดเร็วจะช่วยให้ความชุ่มชื้นและ H2 SiO2 เปลี่ยนตัวไซเลนกับกลุ่มอินทรีย์มีความสำคัญมากเช่นเดียวกับบางสารประกอบดีบุกที่เกี่ยวข้องอย่างใกล้ชิด (บทที่ 29) ปฏิกิริยาความสำคัญมากที่สุดของสารประกอบที่มีพันธะ Si-H เช่น HISiCI3 หรือ HSiCH3 เป็น Speier หรือ hydrosilation ปฏิกิริยาของแอลคีน: สมการปฏิกิริยานี้ซึ่งมีพนักงานกรด chloroplatinic เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีความสำคัญในเชิงพาณิชย์สำหรับการสังเคราะห์ของสารตั้งต้นที่จะซิลิโคน . 15-4 คลอรีนในองค์ประกอบกลุ่ม IV ความร้อนให้ (PbCI4) ของเหลวไม่มีสีหรือสีเหลือง พวกเขาจะถูกย่อยสลายด้วยน้ำในที่สุดจะทำให้ออกไซด์ซึ่งประกอบด้วยน้ำ แต่การย่อยสลายบางส่วนสามารถให้ oxochlorides ในการปรากฏตัวของน้ำ HCI คลอไรด์ของจีอี Sn และ Pb ให้ chloroanions และ GeCI4 แตกต่างจาก SiCI4 ในการที่จะสามารถกลั่นและแยกออกจากความเข้มข้น HCI ใช้หลักการของ SiCI4 และ GeCI4 อยู่ในการสังเคราะห์ขององค์ประกอบที่บริสุทธิ์และซิลิกอนและดีบุกในการสังเคราะห์สารประกอบที่เป็นสารเชิงซ้อนโลหะ (บทที่ 29)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ซิลิคอนเป็นปกติค่อนข้าง unreactive . มันถูกโจมตีโดยแฮโลเจนให้ tetrahalides และด่างให้โซลูชั่นของซิลิเกต . มันไม่โจมตีด้วยกรดไฮโดรฟลูออริก ยกเว้น ; สันนิษฐานว่าเสถียรภาพของ sif62 - ให้พลังขับที่นี่เลย
เจอร์เมเนียมค่อนข้างมากขึ้นปฏิกิริยากว่าซิลิคอนและละลายในกรดซัลฟิวริกเข้มข้น andhno3 .ดีบุกและตะกั่วกรดและละลายในหลาย ๆอย่างรวดเร็วโจมตีโดยฮาโลเจน พวกเขาจะค่อยๆโจมตีด้วยความเย็นด่างอย่างรวดเร็วโดยร้อน รูปแบบและ stannates plumbites . นำมักจะปรากฏเป็นเกียรติและ unreactive กว่าจะถูกระบุโดยศักยภาพของมาตรฐานของโนเบิล และ unreactive กว่าจะถูกระบุโดยศักยภาพของมาตรฐานของ -0.13 โวลต์ประสิทธิภาพต่ำเนื่องจากแรงดันสูงสำหรับไฮโดรเจน และยัง ในบางกรณี เพื่อเคลือบผิวไม่ละลาย ดังนั้นตะกั่วไม่ละลายด้วยกรดซัลฟิวริกเจือจางกรดไฮโดรคลอริกเข้มข้นและสารประกอบของธาตุในกลุ่มที่ 4





mh4 โฮเมอร์ 15-3 , เหล่านี้เป็นก๊าซที่ไม่มีสี monosilane sih4 เท่านั้น , มีความสำคัญก๊าซไวไฟนี้ได้ถูกจัดเตรียมโดยการกระทำของ liaih4 บน si02 ที่ 150-170 °หรือโดยการลด sici4 กับ liaih4 ในอีเทอร์ แม้ว่าเสถียรภาพน้ำและกรดเจือจาง , การย่อยสลายฐานอย่างรวดเร็วทำให้ hydrated และทดแทน H2 SiO2 .
ไซเลนกับกลุ่มอินทรีย์มีความสําคัญมาก เป็นบางอย่างที่เกี่ยวข้องอย่างใกล้ชิดสารประกอบดีบุก ( ตอนที่ 29 )ปฏิกิริยาของสารประกอบที่มีความสำคัญมากที่สุดจังหวัด− H พันธบัตรเช่น hisici3 หรือ hsich3 เป็น speier หรือ hydrosilation ปฏิกิริยาของแอลคีน :

สมการปฏิกิริยานี้ ซึ่งมีพนักงาน chloroplatinic กรดเป็นตัวเร่งปฏิกิริยาเป็นในเชิงพาณิชย์ที่สำคัญสำหรับการสังเคราะห์สารตั้งต้นกับซิลิโคน
.
15-4 คลอรีนของกลุ่มที่ 4 องค์ประกอบของความร้อนให้ ไม่มีสี หรือสีเหลือง ( pbci4 ) ของเหลวพวกเขาจะไฮโดรไลซ์ด้วยน้ำ ในที่สุดก็ต้องไฮดรัสออกไซด์ แต่การย่อยบางส่วน สามารถให้ oxochlorides . ในการแสดงตนของกรดไฮโดรคลอริกในสารละลายคลอไรด์ของ GE , ดีบุกและตะกั่ว ให้ chloroanions และ geci4 แตกต่างจาก sici4 ที่สามารถกลั่น และแยกจากกรดไฮโดรคลอริกเข้มข้น หลักการใช้และ sici4 geci4 ในการสังเคราะห์ธาตุบริสุทธิ์ และซิลิกอนและดีบุกในการสังเคราะห์สารประกอบ Organo ( ตอนที่ 29 )