The substrate was heated by a resis

The substrate was heated by a resistive radiation heater located above the sample and the sample temperature was calibrated using a chromel–alumel thermocouple at the sample position [

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

พื้นผิวถูกความร้อน โดยร้อนทานรังสีตั้งอยู่เหนือตัวอย่าง และอุณหภูมิตัวอย่างถูกปรับเทียบโดยใช้ thermocouple chromel – alumel ที่[ตัวอย่างตำแหน่ง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สารตั้งต้นที่ถูกความร้อนจากเครื่องทำความร้อนรังสีทานอยู่เหนือตัวอย่างและอุณหภูมิตัวอย่างได้รับการสอบเทียบการใช้ thermocouple chromel-alumel ที่ตำแหน่งตัวอย่าง [

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ฐานรองให้ความร้อนโดยการแผ่รังสีความร้อนความต้านทานอยู่ข้างตัวอย่างและตัวอย่างการปรับอุณหภูมิเป็นโครเมล– alumel thermocouple ที่ตำแหน่ง [ ตัวอย่าง