A thin layer (20 nm) of Ti is depos

A thin layer (20 nm) of Ti
is deposited prior to
Pt to
promote
electrode adhesion

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ชั้นบาง (20 nm) ของตี้
ฝากก่อน
Pt ไป
ส่งเสริม
ยึดติดอิเล็กโทรด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ชั้นบาง ๆ (20 นาโนเมตร) ของ Ti
จะฝากก่อนที่จะ
Pt การ
ส่งเสริม
ขั้วยึดเกาะ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ชั้นบาง ( 20 nm ) ของ TI คือฝากก่อน




การโปรโมท PT ขั้วไฟฟ้า