Fabrication of the metal-filled CNT

Fabrication of the metal-filled CNT was achieved using inductively coupled plasma chemical vapour deposition (ICP-CVD).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ผลิตของ CNT เต็มไปด้วยโลหะสำเร็จใช้พลาสม่า inductively กระปุกสะสมไอสารเคมี (ICP-CVD)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การผลิตของซีเอ็นโลหะที่เต็มไปด้วยก็ประสบความสำเร็จโดยใช้ inductively คู่พลาสมาไอสารเคมีการสะสม (ICP-CVD)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การขึ้นรูปโลหะบรรจุ CNT เท่ากับการใช้อุปนัยคู่พลาสมาซีวีดี ( icp-cvd )