The basic sputtering process has be

The basic sputtering process has been known and, despite its limitations, used for many years. The introduction of what are now termed `conventional', or `balanced’ magnetrons in the early 1970s [2] and [3] was an important step forward in overcoming these limitations.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

กระบวนการสปัตเตอร์ขั้นพื้นฐานได้รับทราบและแม้จะมีข้อ จำกัด ของมันใช้เวลาหลายปี การแนะนำของสิ่งที่เรียกว่าตอนนี้การชุมนุม `'หรือ` สมดุล' magnetrons ในปี 1970 ช่วงต้น [2] และ [3] เป็นขั้นตอนที่สำคัญในการเอาชนะข้อ จำกัด เหล่านี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การ sputtering พื้นฐานได้รับทราบ และ แม้ มีข้อจำกัดของมัน ใช้เวลาหลายปี แนะนำว่าตอนนี้จะเรียกว่า magnetrons 'ธรรมดา' หรือ 'สมดุล' ใน [2] และ [3] ถูกขจัดหมดไปในสิ้นข้อจำกัดเหล่านี้ขั้นตอนสำคัญ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การละล่ำละลักทั้งที่เป็นที่รู้จักและแม้จะมีข้อจำกัดที่ใช้สำหรับหลายปี การแนะนำของอะไรคือตอนนี้เรียกว่า'ทั่วไป'หรือ'สมดุล' magnetrons ในช่วงต้นทศวรรษที่ 1970 s [ 2 ]และ[ 3 ]เป็นขั้นตอนสำคัญในการเอาชนะข้อจำกัดเหล่านี้.