Table 1Sample symbols, names and tr

Table 1
Sample symbols, names and treatments.
Symbol Treatment
ZT Blasting, dual acid etching (first acid etching in HF), treatment in dilute
hydrogen peroxide at room temperature
ZTM Blasting, dual acid etching (first acid etching in HF) and final oxidation in
concentrate H2O2 at high temperature
ZTF Blasting, dual acid etching (first acid etching in HBF4), treatment in dilute
hydrogen peroxide at room temperature
ZTFM Blasting, dual acid etching (first acid etching in HBF4) and final oxidation
in concentrate H2O2 at high temperature

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ตารางที่ 1ตัวอย่างสัญลักษณ์ ชื่อ และการรักษารักษาสัญลักษณ์ZT ระเบิด กรดคู่กัด (แรกกรดกัดใน HF) รักษาใน diluteไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ที่อุณหภูมิห้องZTM ระเบิด คู่กรดกัด (แรกกรดกัดใน HF) และสุดท้ายเกิดออกซิเดชันในข้น H2O2 ที่อุณหภูมิสูงZTF ระเบิด กรดคู่กัด (แรกกรดกัดใน HBF4) การรักษาใน diluteไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ที่อุณหภูมิห้องZTFM ระเบิด คู่กรดกัด (แรกกรดกัดใน HBF4) และสุดท้ายเกิดออกซิเดชันในสมาธิ H2O2 ที่อุณหภูมิสูง

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ตารางที่ 1
สัญลักษณ์ตัวอย่างชื่อและการรักษา.
สัญลักษณ์รักษา
ZT พ่น, กรดกัดคู่ (กรดกัดครั้งแรกใน HF)
การรักษาในเจือจางไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ที่อุณหภูมิห้อง
ZTM พ่น, กรดกัดคู่ (กรดกัดครั้งแรกใน HF) และการเกิดออกซิเดชันสุดท้ายใน
สมาธิ H2O2 ที่อุณหภูมิสูง
ZTF พ่น, กรดกัดคู่ (กรดกัดครั้งแรกใน HBF4)
การรักษาในเจือจางไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ที่อุณหภูมิห้อง
ZTFM พ่น, กรดกัดคู่ (กรดกัดครั้งแรกใน HBF4) และการเกิดออกซิเดชันสุดท้ายในสมาธิ H2O2 ที่อุณหภูมิสูง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ตารางที่ 1
สัญลักษณ์ตัวอย่าง ชื่อ และ การรักษา การรักษา

ZT ระเบิดสัญลักษณ์คู่กัดกรด ( ก่อนกัดกรด HF ) , การรักษาในไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ที่อุณหภูมิห้องเจือจาง

ztm ระเบิดคู่กัดกรด ( ก่อนกัดกรด HF ) และสุดท้ายออกซิเดชันใน

ztf H2O2 เข้มข้นที่อุณหภูมิสูงระเบิด คู่แรก , กัดกรดกัดกรดใน hbf4 การเจือจาง
)ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ที่อุณหภูมิห้อง
ztfm ระเบิดคู่กัดกรด ( กรดกัดครั้งแรกใน hbf4 ) และสุดท้ายในการสลาย
เข้มข้นที่อุณหภูมิสูง