Moreover, the formation of Cu3Ge is the result of Cu diffusion; the presence of stable Cu3Ge layer at the interface between Ge and Cu layers retards the further diffusion of copper atoms into the GaAs substrate
นอกจากนี้ การก่อตัวของ Cu3Ge เป็นผลของ Cu แพร่ ก็มั่นคงชั้น Cu3Ge ที่อินเทอร์เฟซระหว่าง Ge และชั้น Cu retards แพร่ต่อของอะตอมทองแดงเข้ากับพื้นผิวของ GaAs