The GD-OES elemental profile of the

The GD-OES elemental profile of the surface treated by dipping
in KMnO4 showed lower oxide layer thickness and the chemical
profile exhibits uniform distribution of manganese throughout the
oxide layer. The manganese concentration showed a decrease with
depth towards the metal oxide interface. However in the case of
steam treatment using KMnO4 solution, thickness of the produced
oxide layer was high, while the manganese content in the coating
was significantly lower in the top (∼200 nm) ofthe surface layer as
shown in Fig. 1 (e). The steam treatment ofPeraluman 706TM surface
with steam generated from aqueous solution ofHNO3 did not indicate the incorporation ofany other chemical species, neither at the
surface nor in the bulk ofthe oxide layer (Fig. 1 (f)). The GD-OES profiling of the AA1090 and AA6060 alloys surfaces (not shown) also
exhibited similar results as for Peraluman 706TM, therefore only the
summary of the results for AA1090 and AA6060 is presented.
Average thickness of the oxide layer calculated from the GDOES depth profiles on AA1090, AA6060 and Peraluman 706TM are
presented in Fig. 1 (d). In general, thickness of the oxide layer was
a function ofthe substrate type and chemistries. The highest thickness ofthe oxide layer resulted from steam treatment using KMnO4
on AA1090, AA6060 and Peraluman 706TM. Steam generated from
the aqueous solution with low concentration of HNO3 resulted in
the formation of relatively thick oxide on Peraluman 706TM and
AA6060 in comparison to AA1090. The increase in the concentration of HNO3 reduced the average thickness of the oxide layer on
Peraluman 706TM and AA6060. AA1090 alloy exhibited reduction
in thickness of oxide layer by the addition of HNO3 regardless of
the variation in concentration of HNO3 in aqueous solution

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โพรไฟล์ธาตุ GD OES ของพื้นผิวที่ได้รับการรักษา โดยการจุ่มใน KMnO4 แสดงให้เห็นว่าความหนาของชั้นออกไซด์ต่ำและสารเคมีโพรไฟล์กระจายสม่ำเสมอของแมงกานีสตลอดทั้งการจัดแสดงนิทรรศการการชั้นของออกไซด์ ความเข้มข้นของแมงกานีสที่พบลดลงด้วยลึกไปทางอินเทอร์เฟซของโลหะออกไซด์ อย่างไรก็ตามในกรณีของการอบใช้โซลูชัน KMnO4 ความหนาของการผลิตชั้นออกไซด์ได้สูง ในขณะที่เนื้อหาแมงกานีสในการเคลือบอย่างมีนัยสำคัญต่ำ (∼200 nm) ด้านบนของชั้นผิวเป็นแสดงในรูปที่ 1 (e) พื้นผิวไอน้ำรักษา ofPeraluman 706TMด้วยไอน้ำที่เกิดจากสารละลาย ofHNO3 ไม่ได้ระบุกำกับประสานสารเคมีชนิดอื่น ที่ไม่ให้พื้นผิว หรือในกลุ่มของออกไซด์ชั้น (รูปที่ 1 (f)) สร้างโพรไฟล์ GD OES ของ AA1090 และ AA6060 โลหะผสมผิว (ไม่แสดง) ยังแสดงผลที่คล้ายกันเช่น Peraluman 706TM ดังนั้นเพียงการนำเสนอสรุปผลการ AA1090 และ AA6060มีความหนาเฉลี่ยของชั้นออกไซด์ที่คำนวณจากส่วนกำหนดค่าความลึก GDOES AA1090, 706TM AA6060 และ Peralumanแสดงในรูปที่ 1 (d) ทั่วไป มีความหนาของชั้นออกไซด์การทำงานของชนิดสารตั้งต้นและเคมี ความหนาสูงสุดของชั้นออกไซด์เกิดจากการอบใช้ KMnO4บน 706TM AA1090, AA6060 และ Peraluman ไอน้ำที่เกิดจากส่งผลให้การละลายกับความเข้มข้นต่ำของ HNO3การก่อตัวของออกไซด์หนาค่อนข้างบน Peraluman 706TM และAA6060 เปรียบเทียบกับ AA1090 การเพิ่มขึ้นของความเข้มข้นของ HNO3 ลดลงความหนาเฉลี่ยของชั้นออกไซด์บนPeraluman 706TM และ AA6060 โลหะผสม AA1090 แสดงการลดความหนาของชั้นออกไซด์โดยการเติม HNO3-การเปลี่ยนแปลงในความเข้มข้นของ HNO3 ในสารละลาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

GD-OES รายละเอียดธาตุของพื้นผิวได้รับการรักษาโดยการจุ่ม
ใน KMnO4 แสดงให้เห็นความหนาของชั้นออกไซด์ลดลงและสารเคมี
การจัดแสดงนิทรรศการประวัติเครื่องแบบกระจายของแมงกานีสทั่ว
ชั้นออกไซด์ ความเข้มข้นแมงกานีสพบว่าลดลงมี
ความลึกต่ออินเตอร์เฟซโลหะออกไซด์ อย่างไรก็ตามในกรณีของ
การรักษาอบไอน้ำใช้วิธี KMnO4 ความหนาของผลิต
ชั้นออกไซด์อยู่ในระดับสูงในขณะที่เนื้อหาแมงกานีสในการเคลือบ
ลดลงอย่างมีนัยสำคัญในด้านบน (~200 NM) ofthe ชั้นพื้นผิวเป็น
ที่แสดงในรูป 1 (E) การรักษาที่อบไอน้ำผิว ofPeraluman 706TM
ด้วยไอน้ำที่เกิดจากสารละลาย ofHNO3 ไม่ได้ระบุการรวม ofany สารเคมีชนิดอื่น ๆ ทั้งที่
พื้นผิวหรือในกลุ่ม ofthe ชั้นออกไซด์ (รูปที่ 1. (ฉ)) โปรไฟล์ GD-OES ของ AA1090 และ AA6060 ผสมพื้นผิว (ไม่แสดง) นอกจากนี้ยัง
จัดแสดงผลที่คล้ายกันกับการ Peraluman 706TM จึงเพียง
สรุปผลสำหรับ AA1090 และ AA6060 จะนำเสนอ.
หนาเฉลี่ยของชั้นออกไซด์คำนวณจากความลึก GDOES โปรไฟล์บน AA1090, AA6060 และ Peraluman 706TM จะถูก
นำเสนอในรูป 1 (ง) โดยทั่วไปความหนาของชั้นออกไซด์เป็น
ฟังก์ชั่น ofthe ชนิดพื้นผิวและเคมี ความหนาสูงสุด ofthe ชั้นออกไซด์ที่เกิดจากการรักษาโดยใช้ไอน้ำ KMnO4
บน AA1090, AA6060 และ Peraluman 706TM อบไอน้ำที่เกิดจาก
สารละลายที่มีความเข้มข้นต่ำของ HNO3 ผลใน
การก่อตัวของออกไซด์ค่อนข้างหนา Peraluman 706TM และ
AA6060 ในการเปรียบเทียบกับ AA1090 การเพิ่มขึ้นของความเข้มข้นของ HNO3 ลดความหนาเฉลี่ยของชั้นออกไซด์ใน
Peraluman 706TM และ AA6060 AA1090 อัลลอยแสดงการลด
ความหนาของชั้นออกไซด์โดยนอกเหนือจาก HNO3 โดยไม่คำนึงถึง
การเปลี่ยนแปลงในความเข้มข้นของ HNO3 ในสารละลาย

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การ gd-oes ธาตุโปรไฟล์ของผิวด้วยการจุ่มในการลดความหนาของชั้นออกไซด์ KMnO4 ) และเคมีรายละเอียดแสดงการแจกแจงของแมงกานีส ตลอดชั้นออกไซด์ ความเข้มข้นของแมงกานีสพบว่าลดลงด้วยความลึกต่อโลหะออกไซด์อินเตอร์เฟซ อย่างไรก็ตาม ในกรณีของไอน้ำโดยใช้สารละลาย KMnO4 ความหนาของผลิตชั้นออกไซด์สูง ในขณะที่ปริมาณแมงกานีสในการเคลือบลดลงในด้านบน ( ∼ 200 nm ) ของชั้นพื้นผิวเป็นแสดงในรูปที่ 1 ( E ) การรักษาผิว ofperaluman 706tm ไอน้ํากับไอน้ำที่สร้างขึ้นจากสารละลาย ofhno3 ไม่ได้ระบุว่า การแก้ไขปัญหาอื่น ๆ ชนิดสารเคมี หรือที่พื้นผิวและในกลุ่มของชั้นออกไซด์ ( รูปที่ 1 ( F ) การ gd-oes โปรไฟล์ของ aa1090 aa6060 โลหะและพื้นผิว ( ไม่แสดง ) ยังแสดงผลลัพธ์ที่คล้ายกันสำหรับ peraluman 706tm จึงเพียงบทสรุปของผลและ aa1090 aa6060 คือแสดงความหนาเฉลี่ยของชั้นออกไซด์ที่คำนวณจาก gdoes ความลึกโปรไฟล์บน aa1090 aa6060 peraluman 706tm , และเป็นแสดงในรูปที่ 1 ( D ) ทั่วไป ความหนาของชั้นออกไซด์ฟังก์ชันของพื้นผิวชนิดและเคมี . ความหนาสูงสุดของชั้นออกไซด์ที่เกิดจากไอน้ำโดยใช้ KMnO4ใน aa1090 aa6060 peraluman , และ 706tm . ไอน้ำที่สร้างขึ้นจากในสารละลายที่มีความเข้มข้นต่ำมีผลในกรดดินประสิวการเกิดออกไซด์ที่ค่อนข้างหนาและ peraluman 706tmaa6060 เปรียบเทียบกับ aa1090 . การเพิ่มความเข้มข้นของกรดดินประสิวลดความหนาโดยเฉลี่ยของชั้นออกไซด์และ peraluman 706tm aa6060 . มีการ aa1090 อัลลอยความหนาของชั้นออกไซด์โดยการเติมแอซิด ไม่ว่าการเปลี่ยนแปลงความเข้มข้นของกรดดินประสิวในสารละลาย