The XRD analysis, on the other hand

The XRD analysis, on the other hand, acquires information at larger depth than XPS,
and is less crucial to the change of surface condition.
In certain extent, surface cleanliness,
then, is not the primary concern in XRD, but still, air exposure period between sample preparation and characterisation should be kept as short as possible to minimise the surface interference effect such as the surface
oxide formation. Some characterised patterns of silicide thin films are tabulated in Table 2.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

การวิเคราะห์ XRD คง เรียกข้อมูลที่ใหญ่กว่าลึกกว่า XPS และสำคัญน้อยกว่าการเปลี่ยนแปลงของสภาพพื้นผิว ในบางกรณี สะอาด พื้นผิวไม่แล้ว ความกังวลหลักใน XRD แต่ยังคง ช่วงเตรียมตัวอย่างและตรวจลักษณะเฉพาะของแสงอากาศควรเก็บไว้สั้นที่สุดเพื่อลดผลการรบกวนผิวเช่นผิวเกิดออกไซด์ขึ้น บางรูปแบบที่มีฟิล์มบาง silicide ได้สรุปในตารางที่ 2

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การวิเคราะห์ XRD บนมืออื่น ๆ ที่ได้มาข้อมูลที่ระดับความลึกขนาดใหญ่กว่า XPS,
และน้อยสำคัญกับการเปลี่ยนแปลงของสภาพพื้นผิว.
ในระดับหนึ่งความสะอาดของพื้นผิว
นั้นไม่ได้เป็นความกังวลหลักใน XRD แต่ยังคงเปิดรับอากาศ ช่วงเวลาระหว่างการเตรียมสารตัวอย่างและตัวละครควรจะเก็บไว้สั้นที่สุดเท่าที่เป็นไปได้เพื่อลดผลกระทบการรบกวนผิวเช่นพื้นผิว
การก่อออกไซด์ บางรูปแบบที่โดดเด่นของฟิล์มบางซิลิไซด์จะ tabulated ในตารางที่ 2

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การวิเคราะห์ XRD , บนมืออื่น ๆที่ได้รับข้อมูลที่ลึกกว่า XPS ,และที่สำคัญน้อยกว่าการเปลี่ยนแปลงของสภาพผิวในระดับหนึ่ง , พื้นผิวที่สะอาดแล้วไม่ได้เป็นกังวลหลักใน XRD , แต่ยังคง , ระยะเวลาการเปิดรับอากาศระหว่างการเตรียมตัวอย่างและศึกษาควรจะเก็บไว้สั้นที่สุดเท่าที่จะทำได้เพื่อลดผลการรบกวนผิว เช่น ผิวการเกิดออกไซด์ บางลักษณะลวดลายของฟิล์มบางซิลิไซด์วิจัยในรางที่ 2