Magnetron sputtering is a versatile

Magnetron sputtering is a versatile
technique for the deposition of TCO films, and the influences
on the film properties of sputtering parameters, including
deposition power, working pressure, sputtering atmosphere, and
substrate temperature, have been clarified .

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Magnetron พ่นเป็นแบบอเนกประสงค์เทคนิคสำหรับการสะสมโดยฟิล์ม และมีอิทธิพลต่อการในคุณสมบัติฟิล์มของพารามิเตอร์ รวมถึงการพ่นสะสมพลังงาน แรงกดดันทำงาน บรรยากาศ พ่น และอุณหภูมิพื้นผิว มีการขึ้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สปัตเตอร์ Magnetron
เป็นอเนกประสงค์เทคนิคสำหรับการสะสมของภาพยนตร์TCO
และอิทธิพลที่มีต่อสมบัติของฟิล์มพารามิเตอร์สปัตเตอร์รวมทั้งอำนาจการสะสมความดันทำงานบรรยากาศสปัตเตอร์และอุณหภูมิพื้นผิวที่ได้รับการชี้แจง

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แมกนีตรอนสปัตเตอริงเป็นเทคนิคที่หลากหลาย
คำให้การ TCO ฟิล์ม และอิทธิพล
บนฟิล์มคุณสมบัติของพารามิเตอร์การสปัตเตอร์รวมทั้ง
พลังงานสะสมแรงดันใช้งาน บรรยากาศสปัตเตอริงและ
อุณหภูมิพื้นผิวได้รับการตรวจสอบ