In the RIE-process, cations are pro

In the RIE-process, cations are produced from reactive gases which are accelerated with high
energy to the substrate and chemically react with the silicon. The typical RIE gasses for Si are
CF4, SF6 and BCl2 + Cl2. As seen in Figure 5, both physical and chemical reaction is taking
place. Figure 6 depicts some micro/nano structures with high aspect ration etched using RIE
process.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในกระบวน RIE แคทไอออนที่ผลิตจากก๊าซปฏิกิริยาที่เร่ง ด้วยสูงพลังงานพื้นผิว และสารเคมีทำปฏิกิริยากับซิลิโคนจะ ก๊าซในกลุ่มทั่วไปสำหรับศรีมีCF4, SF6 และ BCl2 + Cl2 เท่าที่เห็นในรูปที่ 5 คือการเกิดปฏิกิริยาทั้งทางกายภาพ และเคมีสถานที่ รูปที่ 6 แสดงให้เห็นโครงสร้างไมโคร/นาโนบาง ด้วยอัตราสูงสลักใช้วากระบวนการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ริเอะในกระบวนการไพเพอร์ผลิตจากคลังก๊าซที่มีการเร่งสูง
พลังงานกับพื้นผิวและสารเคมีทำปฏิกิริยากับซิลิกอน ก๊าซริเอะทั่วไปสำหรับศรี
CF4, SF6 และ BCl2 + Cl2 เท่าที่เห็นในรูปที่ 5 ปฏิกิริยาทั้งทางกายภาพและทางเคมีคือการ
ที่ รูปที่ 6 แสดงให้เห็นบางส่วนโครงสร้างไมโคร / นาโนที่มีลักษณะสูงปันส่วนฝังโดยใช้แม่พิมพ์
กระบวนการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ในกระบวนการริเอะไอออนผลิตจากก๊าซซึ่งจะเร่งปฏิกิริยาสูงพลังงานพื้นผิวทางเคมีและปฏิกิริยากับซิลิคอน โดยทั่วไปก๊าซสำหรับศรีริเbcl2 + cl2 CF4 SF6 , และ . ตามที่เห็นในรูปที่ 5 ของปฏิกิริยาทั้งทางกายภาพและทางเคมีคือการสถานที่ รูปที่ 6 แสดงให้เห็นบางไมโคร / นาโนโครงสร้างด้วย ส่วนด้านสูงสลักโดยใช้ริเอะกระบวนการ