(I). All the deposition runs, regar

(I). All the deposition runs, regardless of the target used, were carried out using the parameters reported in Table 2. Polished AISI 304 stainless steel and sintered Al2O3 were used as substrates.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

(I) การรันทั้งหมดสะสม โดยใช้ เป้าหมายที่ดำเนินการโดยใช้พารามิเตอร์รายงานในตารางที่ 2 เหล็กกล้าไร้สนิม AISI 304 ขัดเงาและ Al2O3 เผาถูกใช้เป็นพื้นผิว

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

(ผม). ทั้งหมดวิ่งการสะสมโดยไม่คำนึงถึงเป้าหมายที่ใช้ได้ดำเนินการโดยใช้พารามิเตอร์ที่มีการรายงานในตารางที่ 2 ขัดเกรด 304 สแตนเลสและเผา Al2O3 ถูกนำมาใช้เป็นสารตั้งต้น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

( ฉัน ) ทั้งหมดสะสมหมด โดยไม่คำนึงถึงเป้าหมายใช้ ทดลองใช้พารามิเตอร์รายงานในตารางที่ 2 ขัด AISI 304 สแตนเลสและผง Al2O3 ถูกใช้เป็นท