The PECVD deposition system is rela

The PECVD deposition system is relatively simple and consists of five main parts (see Figure 5.9):

• A stainless steel high vacuum reaction chamber with capacitatively coupled parallel elec­trodes, rf power feedthrough, substrate holder and substrate heating assembly.

• A gas handling system containing mass flow controllers and several gas valves to handle gas flows required for the deposition of the intrinsic and doped layers and pressure in the chamber.

• A pumping system that usually consists of a turbomolecular pump and a mechanical rotary pump, which can handle reactive gasses.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ระบบสะสม PECVD ค่อนข้างง่าย และประกอบด้วยห้าส่วนหลัก (ดูรูปที่ 5.9):•ปฏิกิริยาดูดสูงสแตนเลสสตีลช่องขั้วขนานคู่ capacitatively, feedthrough พลังงาน rf ยึดพื้นผิว และพื้นผิวความร้อนประกอบก๊าซ A •การจัดการระบบประกอบด้วยตัวควบคุมการไหลและวาล์วแก๊สหลายจัดการกระแสก๊าซที่จำเป็นสำหรับการสะสมของชั้น intrinsic และเจือและความดันในห้อง• A ระบบปั๊มน้ำที่โดยปกติประกอบด้วยเครื่องสูบน้ำ turbomolecular และกลโรตารี่ปั๊ม ซึ่งสามารถจัดการกับปฏิกิริยาก๊าซ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ระบบ PECVD การสะสมค่อนข้างง่ายและประกอบด้วยห้าส่วนหลัก (ดูรูปที่ 5.9): . •สแตนเลสสูญญากาศสูงหอการค้าทำปฏิกิริยากับคู่ capacitatively ขั้วไฟฟ้าขนาน RF feedthrough อำนาจยึดพื้นผิวและการชุมนุมพื้นผิวร้อน•ระบบจัดการก๊าซที่มี ควบคุมการไหลของมวลและวาล์วก๊าซหลายที่จะจัดการกับกระแสก๊าซที่จำเป็นสำหรับการสะสมของเนื้อแท้และเจือชั้นและความดันในห้อง. •ระบบสูบน้ำที่มักจะประกอบด้วยปั๊ม turbomolecular และปั๊มโรตารี่กลที่สามารถจัดการก๊าซปฏิกิริยา

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ระบบสะสม pecvd คือค่อนข้างง่าย และประกอบด้วย 5 ส่วนหลัก ( รูปที่ 6 )- เป็นสแตนเลสสูญญากาศสูงปฏิกิริยาหอด้วย capacitatively ควบคู่ขนาน elec อง trodes feedthrough พลังงาน RF , ผู้ถือ , พื้นผิวและการประกอบเครื่องที่ทนทาน- ก๊าซการจัดการระบบที่มีตัวควบคุมการไหลของมวลและวาล์วแก๊สหลายที่จะจัดการกับกระแสก๊าซที่จำเป็นสำหรับการสะสมของภายใน และด้วยชั้นและความดันในห้อง- เป็นระบบสูบน้ำที่มักจะประกอบด้วยปั๊ม turbomolecular และกลโรตารีปั๊ม ซึ่งสามารถจัดการกับปฏิกิริยาก๊าซ .