3. Results and discussionThree sets

3. Results and discussion
Three sets of films, prepared at different postdeposition oxygen annealing times (ta=30, 60 and 90 min), were characterized by X-ray diffraction measurement. Fig. 1shows the XRD pattern of the CuAlO2 thin film, annealed for 60 min. The substrate was Si (400). The pattern shows a strong (006) orientation. Similar orientations had also been observed previously [19,21]. Other peaks at (003) and (018)have also been observed. This pattern closely reflects the rhombohedral crystal structure with R3m space group [24].Films deposited at other annealing times (ta), 30 and 90 min,show identical peaks and are therefore not shown here. This indicates that postdeposition annealing time has no effect on the structural properties of the films. This is probably because, in all three cases, the annealing temperature was kept fixed (at 473 K).
Fig. 2 represents the temperature variation (from 300 to 575 K) of the conductivity (r) of the films for ta=30, 60 and 90 min. The thicknesses of the films were around 500 nm,estimated from cross-sectional SEM. An increase in the room-temperature conductivity (rRT) was observed with the
increase in annealing times (ta). (For example, films with

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

3. ผลการอภิปรายและ
สามชุดของภาพยนตร์เตรียมในช่วงเวลาที่การหลอมออกซิเจน postdeposition แตกต่างกัน (ตา = 30, 60 และ 90 นาที) โดดเด่นด้วยการวัด X-ray diffraction มะเดื่อ 1shows รูปแบบ XRD ของ CuAlO2 ฟิล์มบางอบ 60 นาที พื้นผิวเป็นศรี (400) รูปแบบที่แสดงให้เห็นถึงความแข็งแกร่ง (006) การปฐมนิเทศ ทิศทางที่คล้ายกันนอกจากนี้ยังได้รับการตั้งข้อสังเกตก่อนหน้านี้ [19,21] ยอดเขาอื่น ๆ (003) และ (018) นอกจากนี้ยังได้รับการปฏิบัติ การทำแบบนี้อย่างใกล้ชิดสะท้อนให้เห็นถึงโครงสร้างผลึก rhombohedral กับกลุ่มพื้นที่ R3M [24] .Films ฝากในช่วงเวลาที่การหลอมอื่น ๆ (ตา), 30 และ 90 นาทีแสดงยอดเขาเหมือนกันและดังนั้นจึงไม่ได้รับการแสดงที่นี่ นี้บ่งชี้ว่าเวลาหลอม postdeposition ไม่มีผลต่อคุณสมบัติโครงสร้างของภาพยนตร์ นี่อาจจะเป็นเพราะทั้งสามกรณีอุณหภูมิการหลอมถูกเก็บไว้คงที่ (ที่ 473 K).
รูป 2 แสดงถึงการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิ (300-575 K) การนำไฟฟ้า (r) ของภาพยนตร์สำหรับตา = 30, 60 และ 90 นาที ความหนาของฟิล์มมีประมาณ 500 นาโนเมตรโดยประมาณจากภาคตัดขวาง SEM การเพิ่มขึ้นของการนำอุณหภูมิห้อง (RRT) เป็นข้อสังเกตที่มี
การเพิ่มขึ้นในช่วงเวลาที่การหลอม (TA) (ตัวอย่างเช่นภาพยนตร์ที่มี

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

3 . ผลและการอภิปราย
3 ชุด ของ ภาพยนตร์ เตรียมที่แตกต่างกัน postdeposition ออกซิเจน annealing ครั้ง ( TA = 30 , 60 และ 90 นาที ) มีลักษณะการวัดการเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ . รูปที่ 1shows การวิเคราะห์รูปแบบของ cualo2 ฟิล์ม , อบ 60 นาที ( เป็นศรี ( 400 ) รูปแบบแสดงแข็งแรง ( 006 ) การปฐมนิเทศ ประเภทที่คล้ายกันยังได้รับการพบก่อนหน้านี้ [ 19,21 ]อื่น ๆยอดที่ ( 003 ) และ ( 018 ) ยังพบว่า รูปแบบนี้อย่างใกล้ชิดสะท้อนให้เห็นถึงโครงสร้างผลึก rhombohedral กลุ่มพื้นที่ r3m [ 24 ] ภาพยนตร์ฝากไว้ที่การหลอมครั้งอื่น ๆ ( TA ) , 30 และ 90 นาที แสดงยอดที่เหมือนกันและดังนั้นจึงไม่แสดงที่นี่ นี้บ่งชี้ว่า postdeposition การอบอ่อนไม่มีผลต่อสมบัติเชิงกลของฟิล์ม นี้อาจเป็นเพราะในทั้งสามกรณี อุณหภูมิการอบอ่อนที่ถูกเก็บไว้คงที่ ( 473 K )
รูปที่ 2 แสดงถึงความแปรปรวนของอุณหภูมิ ( จาก 300 575 k ) ค่าการนำไฟฟ้า ( R ) ของภาพยนตร์สำหรับทา = 30 , 60 และ 90 นาที ความหนาของฟิล์มประมาณ 500 นาโนเมตรประมาณการจากแบบ SEM การเพิ่มขึ้นของอุณหภูมิห้อง นำ ( RRT ) พบว่ามีเพิ่มขึ้นในการอบครั้งที่
( TA )( ตัวอย่างเช่น ภาพยนตร์ กับ