coating was performed by ion beam s

coating was performed by ion beam sputtering for increasing the
conductivity which was necessary to avoid charging or
charged up of samples. The atomic percentage of Ca, Cu,
Zn and Ti in the CCZTO ceramics obtained from EDX
data are given in Table 2. The Cu/Ca ratio for CCZTO‐6h,
CCZTO‐8h and CCZTO‐12h are 2.75, 2.73 and 2.73,
respectively. The percentage error are found to be 5.45,
6.22 and 6.22%, respectively.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เคลือบได้ดำเนินการโดยลำแสงไอออนสปัตเตอร์สำหรับการเพิ่มการนำ
ซึ่งเป็นสิ่งจำเป็นเพื่อหลีกเลี่ยงการเรียกเก็บเงินหรือค่าใช้จ่าย
ขึ้นของกลุ่มตัวอย่าง ร้อยละอะตอมของรัฐแคลิฟอร์เนีย, ลูกบาศ์ก,
สังกะสีและ Ti ในเซรามิกส์ที่ได้รับจาก cczto EDX ข้อมูล
จะได้รับในตารางที่ 2 อัตราส่วนลูกบาศ์ก / แคลิฟอร์เนียสำหรับ cczto-6H
cczto-8h และ cczto-12h เป็น 2.75, 2.73 และ 2.73,
ตามลำดับ ข้อผิดพลาดเปอร์เซ็นต์จะพบว่า 5.45,
622 และ 6.22% ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ทำการเคลือบ ด้วยไอออนแสงพ่นสำหรับเพิ่มการ
นำซึ่งจำเป็นต้องหลีกเลี่ยงการชาร์จ หรือ
คิดค่าตัวอย่าง เปอร์เซ็นต์อะตอมของ Ca, Cu,
Zn และตี้ในเครื่องเคลือบ CCZTO ที่ได้รับจากเรื่อง
ข้อมูลแสดงไว้ในตารางที่ 2 อัตราส่วน Cu/Ca สำหรับ CCZTO‐6h,
CCZTO‐8h และ CCZTO‐12h มี 2.75, 2.73 และ 2.73,
ตามลำดับ พบข้อผิดพลาดเปอร์เซ็นต์จะ 5.45,
622 และ 6.22% ตามลำดับ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การเคลือบด้วยได้ดำเนินการโดยลำแสงไอออนละล่ำละลักของการเพิ่ม
ซึ่งจะช่วยนำกระแสไฟฟ้าซึ่งเป็นสิ่งจำเป็นเพื่อหลีกเลี่ยงการชาร์จหรือชาร์จแบตเตอรี่
ซึ่งจะช่วยเพิ่มขึ้นของตัวอย่าง เปอร์เซ็นต์ปรมาณูของ CA ชุดควบคุมข้อมูล
zn และ TI ในเซรามิก cczto ที่ได้รับจาก edx
มีให้ในตารางที่ 2 อัตราส่วนไม่ชุดควบคุม/สำหรับชั่วโมง cczto 12 และ H
cczto cczto 8 - 6 ชั่วโมงมี 2.75 2.73 และ 2.73
ตามลำดับ เกิดข้อผิดพลาดขณะเปอร์เซ็นต์ที่จะพบว่าเป็น 5.45
622 และ 6.22 ,%ตามลำดับ.