In recent years, chirality at the n

In recent years, chirality at the nanoscale [1–4] and chiral surfaces
[5–14] have been found to play an important role in nanotechnology,
particularly chiral nanoscale surfaces and chiral nanoparticles. Generally,
chiral solid surfaces can be derived from chiral bulk structures that
expose chiral, enantioselective surfaces, such as quartz and other
crystalline materials (typically covalent inorganic oxides) [15]. Another
category of chiral solid surfaces is composed of crystalline solids produced
from materials with achiral bulk structures. Such chiral surfaces
are based on single crystals ofmetals (with bcc or hcp crystal structures)
[7] that expose high Miller indices with periodic arrays of steps, terraces,
and kinks. Finally, the most common method for the preparation of chiral
surfaces is the adsorption of chiral molecules, typically onto metallic
surfaces. The resulting surface is chiral if the adsorbed molecules retain
their chirality. Although chiral surfaces based on self-assembled monolayers
(SAMs) or polymeric surfaces exhibit highly enantiospecific properties,
they still suffer from many restrictions, such as low thermal
stability and poor chemical and mechanical characteristics, which limit
their use for chemical applications, particularly for enantioselective catalysis
and chiral separation.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ในปีที่ผ่านมา chirality ที่พื้นผิวสารเคมี chiral อนุ nanoscale [1-4]ตรวจพบ [5-14] การเล่นมีบทบาทสำคัญในนาโนเทคโนโลยีโดยเฉพาะอย่างยิ่งสารเคมี chiral อนุ nanoscale พื้นผิวและเก็บกักสารเคมี chiral อนุ ทั่วไปพื้นผิวของแข็งสารเคมี chiral อนุสามารถได้รับมาจากกลุ่มสารเคมี chiral อนุโครงสร้างที่เปิดเผยการสารเคมี chiral อนุ พื้นผิว enantioselective ควอตซ์และอื่น ๆวัสดุผลึก (covalent ปกติอนินทรีย์ออกไซด์) [15] อีกประเภทของพื้นผิวของแข็งสารเคมี chiral อนุประกอบด้วยของแข็งผลึกผลิตจากวัสดุที่มีโครงสร้างจำนวนมาก achiral พื้นผิวเช่นสารเคมี chiral อนุตาม ofmetals ผลึกเดี่ยว (มีโครงผลึก bcc หรือ hcp)[7] ที่แสดงสูงดัชนีมิลเลอร์กับอาร์เรย์เป็นครั้งคราวตอน ระเบียงและกิจกรรม ในที่สุด วิธีการทั่วไปสำหรับเตรียมสารเคมี chiral อนุพื้นผิวไม่ดูดซับของโมเลกุลสารเคมี chiral อนุ โดยทั่วไปบนโลหะพื้นผิว ผิวผลมีสารเคมี chiral อนุถ้าโมเลกุล adsorbed รักษาchirality ของพวกเขา แม้ว่าพื้นผิวสารเคมี chiral อนุตาม monolayers ประกอบ(SAMs) หรือพื้นผิวชนิดคำแสดงคุณสมบัติ enantiospecificพวกเขายังประสบจากข้อ เช่นความร้อนต่ำความมั่นคงและดีเคมี และเครื่องจักรกลลักษณะ การจำกัดใช้สำหรับสารเคมี โดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับเร่งปฏิกิริยา enantioselectiveและแยกสารเคมี chiral อนุ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ในปีที่ผ่านมาที่ระดับนาโน chirality [1-4] และพื้นผิว chiral
[5-14] ได้รับพบว่ามีบทบาทสำคัญในนาโนเทคโนโลยี
chiral โดยเฉพาะพื้นผิวระดับนาโนและอนุภาคนาโน chiral โดยทั่วไป
พื้นผิวที่เป็นของแข็ง chiral จะได้รับจากโครงสร้างกลุ่ม chiral ที่
เปิดเผย chiral พื้นผิว enantioselective เช่นควอทซ์และอื่น ๆ
วัสดุผลึก (ปกติออกไซด์อนินทรีโควาเลนต์) [15] อีก
ประเภทของพื้นผิวที่เป็นของแข็ง chiral ประกอบด้วยผลึกของแข็งที่ผลิต
จากวัสดุที่มีโครงสร้างกลุ่ม achiral พื้นผิว chiral ดังกล่าว
จะขึ้นอยู่กับผลึกเดี่ยว ofmetals (พร้อมสำเนาลับหรือ hcp โครงสร้างผลึก)
[7] เปิดเผยว่าดัชนีมิลเลอร์สูงที่มีอาร์เรย์ระยะของขั้นตอนระเบียง
และข้อบกพร่อง สุดท้ายวิธีการที่พบมากที่สุดสำหรับการเตรียมความพร้อมของ chiral
พื้นผิวคือการดูดซับของโมเลกุล chiral โดยทั่วไปบนโลหะ
พื้นผิว ส่งผลให้พื้นผิวที่เป็น chiral ถ้าโมเลกุลดูดซับเก็บ
chirality ของพวกเขา แม้ว่าพื้นผิว chiral ขึ้นอยู่กับตัวเอง monolayers ประกอบ
(SAMs) หรือพื้นผิวพอลิเมอจัดแสดงคุณสมบัติ enantiospecific สูง
พวกเขายังคงต้องทนทุกข์ทรมานจากข้อ จำกัด หลายอย่างเช่นความร้อนต่ำ
และมีเสถียรภาพทางเคมีที่ไม่ดีและลักษณะทางกลที่ จำกัด
การใช้งานของพวกเขาสำหรับการใช้สารเคมีโดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับ enantioselective ปฏิกิริยาทางเคมี
และการแยก chiral

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ใน ปี ล่าสุด กศน. ที่ nanoscale [ 1 – 4 ] และจวนตัวพื้นผิว
[ 5 – 14 ] ได้รับพบว่ามีบทบาทสำคัญในนาโนเทคโนโลยี โดยเฉพาะอย่างยิ่งและ nanoscale
พื้นผิว 1 1 อนุภาค โดย
ผิวของแข็ง 1 ได้มาจากโครงสร้างที่เป็นกลุ่ม 1
1 enantioselective เปิดเผย , พื้นผิวเช่นควอทซ์ และ อื่น ๆ
วัสดุผลึก ( โดยปกติการอนินทรีย์ ) [ 15 ] ประเภทของพื้นผิวของแข็งอื่น
1 ประกอบด้วยของแข็งผลึกที่ผลิตจากวัสดุที่มีโครงสร้างขนาดใหญ่ achiral
. เช่นพื้นผิว chiral
ตามผลึกเดี่ยว ofmetals ( BCC หรือ HCP โครงสร้างผลึก )
[ 7 ] เปิดเผยสูงมิลเลอร์ดัชนีกับตารางธาตุ อาร์เรย์ของ บันได ระเบียง
แล้วนี่หว่า . ในที่สุดวิธีที่พบมากที่สุดสำหรับการเตรียมพื้นผิว chiral
คือการดูดซับโมเลกุลไครัล โดยปกติบนพื้นผิวโลหะ

ส่งผลให้พื้นผิวที่เป็นไครัลถ้าดูดซับโมเลกุลรักษา
ความถนัดของตน แม้ว่าไครัลพื้นผิวตามควอนตัมดอต monolayers
( แซม ) หรือพื้นผิวที่ใช้แสดงคุณสมบัติสูง enantiospecific
พวกเขายังคงประสบข้อ จำกัด , มากมายเช่นการนำความร้อนต่ำ และยากจน และลักษณะความมั่นคงทางเคมี

ใช้เครื่องจักรกล ซึ่งวงเงินสำหรับการประยุกต์ทางเคมี โดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับ
เร่ง enantioselective chiral และแยก