DISCUSSIONDifferent advanced oxidat

DISCUSSION
Different advanced oxidation processes (UV and
MW only, UV/H2O2 and MW/H2O2) have been
investigated and compared for the degradation
of p-chlorophenol in aqueous solution. Although
direct photolysis by UV radiation can relatively
reduce p-chlorophenol initial concentration, the
combination of UV and a little amount of H2O2
enhanced strongly the efficiency of degradation
of p-chlorophenol. In the UV/H2O2 processes
hydroxyl radicals, the dominant oxidizing species
  (2)      
in the photocatalytic process (Zhihui et al.,
2005a; Ghaly et al., 2001) are formed according to Eq. 2.
Initial H2O2 concentration plays an important
role in oxidation process. It should be added
at an optimal concentration to achieve the best
degradation. Addition of H2O2 exceeding than
optimal concentration did not improve the
respective maximum degradation. This is clearly
shown in Fig.3. This behavior may be explained
due to two reasons from findings of other studies.
First of all, auto-decomposition of H2O2 to oxygen
and water and the recombination of OH radicals
(Ghaly et al., 2001) and secondly, OH radicals
react with H2O2 and H2O2 itself contributes
to the OH scavenging capacity (Buxton et
al., 1998). The same behavior was reported
by other literature that there is a relationship
between the amounts of hydrogen peroxide and
the degradation efficiency of organic material
(Zhihui et al., 2005a). This provide further
support to earlier work that by addition of H2O2,
the degradation rate of p-chlorophenol at 100
mg/L first increased when hydrogen peroxide
concentration increased. However, the effect
of peroxide is negative for hydrogen peroxide
concentrations higher than 0.02 mol/L for which
the p-chlorophenol degradation rate was even
lower than that obtained from direct photolysis
(Ghaly et al., 2001).
The results of pH effects in the UV/H2O2 process
in present study indicated that the degradation
percent were not considerably affected according
to Fig.4. However, degradation of p-chlorophenol
is accelerated in an acidic and neutral pH medium.
This can be perhaps because the decomposition of
hydrogen peroxide to oxygen and water occurs at
high pH values. The findings of other researches
have shown that pH affects the oxidation of
organic substances both directly and indirectly
and it influences the generation of OH radicals
and thus the oxidation efficiency (Ghaly et al.,
2001).
Microwave irradiation has been successfully
applied in organic chemistry (Hoz et al., 2005).
The effect of microwave irradiation in organic
synthesis is a combination of thermal effects i.e.
superheating, hot spots formation, polarization,
and spin alignment (Loupy, 2002). Similar to UV/

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อภิปรายกระบวนการออกซิเดชันขั้นสูงที่แตกต่างกัน (UV และMW เท่านั้น UV/H2O2 และ MW/H2O2) ได้ตรวจสอบ และเปรียบเทียบของการย่อยสลายของ chlorophenol p ในสารละลาย ถึงแม้ว่าตรง photolysis โดยรังสียูวีสามารถค่อนข้างลดความเข้มข้นเริ่มต้นของ p chlorophenol การUV และจำนวนเงินเล็ก ๆ ของ H2O2ขอเพิ่มประสิทธิภาพของการย่อยสลายของ p-chlorophenol ในกระบวนการ UV/H2O2อนุมูลไฮดรอก การออกซิไดซ์ชนิดที่โดดเด่น (2) ในกระบวน (Zhihui et al.,2005a Ghaly et al. 2001) เกิดขึ้นตาม Eq. 2ความเข้มข้นเริ่มต้นของ H2O2 เล่นสำคัญบทบาทในกระบวนการออกซิเดชัน ควรจะเพิ่มที่ความเข้มข้นที่เหมาะสมเพื่อให้บรรลุที่ดีสุดย่อยสลาย นอกจากนี้ของ H2O2 เกินกว่าไม่มีการปรับปรุงความเข้มข้นที่เหมาะสมลดสูงสุดตามลำดับ อยู่อย่างชัดเจนแสดงใน Fig.3 ลักษณะการทำงานนี้อาจอธิบายได้เนื่องจากเหตุผลสองประการจากผลการวิจัยของการศึกษาอื่น ๆครั้งแรกของทั้งหมด อัตโนมัติการสลายตัวของ H2O2 ออกซิเจนและน้ำและรวมตัวกันของอนุมูล OH(Ghaly et al. 2001) และประการที่ สอง อนุมูล OHตอบสนองกับ H2O2 และ H2O2 ที่ตัวเองก่อการ OH scavenging จุ (Buxton etal., 1998) รายงานพฤติกรรมเดียวกันโดยวรรณกรรมอื่นๆ ที่มีความสัมพันธ์ระหว่างปริมาณของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ และประสิทธิภาพย่อยสลายของวัสดุอินทรีย์(Zhihui et al. 2005a) นี้ให้เพิ่มเติมการสนับสนุนก่อนหน้านี้ทำงานที่ โดยเพิ่ม H2O2อัตราการสลายตัวของ p-chlorophenol 100mg/L ก่อนเพิ่มเมื่อไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ความเข้มข้นเพิ่มขึ้น อย่างไรก็ตาม ผลของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์เป็นค่าลบสำหรับไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ความเข้มข้นสูงกว่า 0.02 mol/L ซึ่งอัตราการย่อยสลายพี chlorophenol ผิดต่ำกว่าที่ได้รับจากตรง photolysis(Ghaly et al. 2001)ผลลัพธ์ของผลค่า pH ในกระบวนการ UV/H2O2ในปัจจุบันการศึกษาระบุว่า เสื่อมสภาพเปอร์เซ็นต์ไม่มากถูกกระทบตามการ Fig.4 อย่างไรก็ตาม สลายของ p-chlorophenolจะเร่งในสื่อ pH เป็นกรด และเป็นกลางนี้อาจบางทีเนื่องจากการสลายตัวของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์กับน้ำและออกซิเจนเกิดขึ้นที่ค่า pH สูง ผลการวิจัยของงานวิจัยอื่น ๆแสดงค่า pH ที่มีผลต่อการเกิดออกซิเดชันของสารอินทรีย์โดยตรง และโดยอ้อมและมันมีผลต่อการสร้างอนุมูล OHและประสิทธิภาพจึงเกิดออกซิเดชัน (Ghaly et al.,2001)ฉายรังสีไมโครเวฟได้รับเรียบร้อยแล้วใช้ในเคมีอินทรีย์ (Hoz et al. 2005)ผลของการฉายรังสีไมโครเวฟในอินทรีย์การสังเคราะห์คือ การรวมกันของผลความร้อนเช่นก่อ superheating เท่ ๆ โพลาไรซ์และหมุนตำแหน่ง (Loupy, 2002) คล้ายกับ UV /

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

คำอธิบาย
ที่แตกต่างกันกระบวนการออกซิเดชันขั้นสูง (UV และ
เมกะวัตต์เท่านั้น UV / H2O2 และเมกะวัตต์ / H2O2) ได้รับการ
ตรวจสอบและเปรียบเทียบการย่อยสลาย
ของ P-chlorophenol ในสารละลาย แม้ว่า
photolysis โดยตรงจากรังสียูวีค่อนข้างสามารถ
ลด P-chlorophenol ความเข้มข้นเริ่มต้นของ
การรวมกันของรังสียูวีและเป็นจำนวนเงินที่เล็ก ๆ น้อย ๆ ของ H2O2
ที่เพิ่มขึ้นอย่างมากประสิทธิภาพในการย่อยสลาย
ของ P-chlorophenol ในยูวี / H2O2 กระบวนการ
อนุมูลไฮดรอกสายพันธุ์ที่โดดเด่นออกซิไดซ์
 (2) 
ในกระบวนการออกไซด์ (Zhihui, et al.
2005A. Ghaly, et al, 2001) จะเกิดขึ้นตาม เพื่อสม 2.
ความเข้มข้นของ H2O2 เริ่มต้นเล่นที่มีความสำคัญ
บทบาทในกระบวนการออกซิเดชัน มันควรจะเพิ่ม
ในความเข้มข้นที่เหมาะสมเพื่อให้บรรลุที่ดีที่สุดสำหรับ
การย่อยสลาย นอกเหนือจาก H2O2 เกินกว่า
ความเข้มข้นที่เหมาะสมไม่ได้ปรับปรุง
การย่อยสลายสูงสุดตามลำดับ นี้ชัดเจน
ที่แสดงในรูปที่ 3 ลักษณะการทำงานนี้อาจจะอธิบายได้
เนื่องจากเหตุผลสองประการจากผลการศึกษาอื่น ๆ
แรกของทุกอัตโนมัติการสลายตัวของ H2O2 ออกซิเจน
และน้ำและการรวมตัวกันของอนุมูลโอ้
(Ghaly et al., 2001) และประการที่สอง OH อนุมูล
ทำปฏิกิริยากับ H2O2 และ H2O2 ตัวเองก่อ
ความจุไล่โอไฮโอ (บักซ์ตัน et
al., 1998) พฤติกรรมเดียวกันมีรายงาน
จากวรรณกรรมอื่น ๆ ที่มีความสัมพันธ์
ระหว่างปริมาณของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์และ
ประสิทธิภาพในการย่อยสลายของสารอินทรีย์
(Zhihui et al., 2005A) นี้ให้ความ
สนับสนุนในการทำงานก่อนหน้านี้ว่าโดยการเติม H2O2,
อัตราการย่อยสลายของ P-chlorophenol ที่ 100
มิลลิกรัม / ลิตรเพิ่มขึ้นเป็นครั้งแรกเมื่อไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์
ความเข้มข้นเพิ่มขึ้น อย่างไรก็ตามผลกระทบ
ของเปอร์ออกไซด์เป็นลบสำหรับไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์
ความเข้มข้นสูงกว่า 0.02 โมล / ลิตรซึ่ง
อัตราการย่อยสลาย P-chlorophenol ได้แม้แต่
ต่ำกว่าที่ได้รับจาก photolysis โดยตรง
(Ghaly et al., 2001)
ผลที่ได้จากผลกระทบค่า pH ในกระบวนการ UV / H2O2
ในการศึกษาชี้ให้เห็นว่าการย่อยสลาย
ร้อยละที่ไม่ได้รับผลกระทบอย่างมากตาม
ไป Fig.4 อย่างไรก็ตามการย่อยสลายของ P-chlorophenol
จะเร่งในสื่อที่เป็นกรดด่างและเป็นกลาง
นี้จะมีบางทีอาจเป็นเพราะการสลายตัวของ
ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ออกซิเจนและน้ำเกิดขึ้นที่
ค่าพีเอชสูง ผลการวิจัยอื่น ๆ ที่
แสดงให้เห็นว่ามีผลกระทบต่อค่า pH ออกซิเดชันของ
สารอินทรีย์ทั้งทางตรงและทางอ้อม
และจะมีผลต่อการสร้างอนุมูลโอ้
และทำให้ประสิทธิภาพการเกิดออกซิเดชัน (Ghaly et al.,
2001)
การฉายรังสีไมโครเวฟได้รับการประสบความสำเร็จ
นำไปใช้ในเคมีอินทรีย์ (Hoz et al., 2005)
ผลของการฉายรังสีไมโครเวฟในอินทรีย์
สังเคราะห์เป็นส่วนผสมของผลกระทบความร้อนเช่น
superheating ร้อนก่อตัวจุดโพลาไรซ์,
และการจัดตำแหน่งการหมุน (Loupy, 2002) ที่คล้ายกันยูวี /

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การอภิปรายกระบวนการออกซิเดชันขั้นสูงที่แตกต่างกัน ( UV และเมกะวัตต์เท่านั้น รังสี UV H2O2 MW / / และ H2O2 ) ได้รับศึกษาและเปรียบเทียบสำหรับการย่อยสลายของ p-chlorophenol ในสารละลาย . ถึงแม้ว่าโฟโตไลซิส โดยรังสี UV สามารถค่อนข้างตรงลด p-chlorophenol ความเข้มข้น ,และการรวมกันของ UV H2O2 นิดหน่อยเพิ่มขึ้นอย่างมากประสิทธิภาพของการย่อยสลายของ p-chlorophenol . ในกระบวนการ UV / แบตเตอรี่ไฮดรอกซิลอิสระ , เด่นชนิดออกซิไดซ์ ( 2 ) ในกระบวนการ Photocatalytic ( zhihui et al . ,2005a ; กาลี et al . , 2001 ) จะเกิดขึ้นตามอีคิว 2เริ่มต้นที่สำคัญ H2O2 สมาธิเล่นบทบาทในกระบวนการออกซิเดชัน มันควรจะเพิ่มในความเข้มข้นที่เหมาะสมเพื่อให้บรรลุ ที่ดีที่สุดการย่อยสลาย เพิ่มแบตเกินกว่าความเข้มข้นที่เหมาะสมไม่ได้ปรับปรุงตามลําดับสูงสุดลดลง นี้เป็นอย่างชัดเจนแสดงใน fig.3 . พฤติกรรมนี้อาจอธิบายได้ว่าเนื่องจากสองเหตุผลจากผลของการศึกษาอื่น ๆครั้งแรกของทั้งหมด โดยการสลายตัวของ H2O2 ออกซิเจนและน้ำและการเกิดของโอ้( กาลี et al . , 2001 ) และประการที่สอง โอ้อนุมูลและทำปฏิกิริยากับ H2O2 H2O2 ตัวเองมีส่วนช่วยกับโอ้ scavenging ความจุ ( บักซ์ตันและal . , 1998 ) พฤติกรรมเดียวกันมีรายงานว่าจากวรรณกรรมอื่น ๆ ที่มีความสัมพันธ์ระหว่างปริมาณของไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ และการย่อยสลายประสิทธิภาพของวัสดุอินทรีย์( zhihui et al . , 2005a ) นี้ให้ต่อไปสนับสนุนงานส่วนของ H2O2 ก่อนหน้านี้ ,ในอัตราการย่อยสลายของ p-chlorophenol ที่ 100มิลลิกรัม / ลิตรแรกเพิ่มขึ้นเมื่อไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ความเข้มข้นที่เพิ่มขึ้น อย่างไรก็ตาม ผลกระทบเปอร์ออกไซด์ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์เป็นลบสำหรับความเข้มข้นสูงกว่า 0.02 mol / l ที่การ p-chlorophenol อัตราการย่อยสลายได้แม้แต่ต่ำกว่าที่ได้รับจากโฟโตไลซิส โดยตรง( กาลี et al . , 2001 )ผลของ pH ต่อในกระบวนการ UV / แบตเตอรี่ในการศึกษาครั้งนี้พบว่า การย่อยสลายร้อยละที่ได้รับผลกระทบไม่มากตามเพื่อ fig.4 . อย่างไรก็ตาม p-chlorophenol การสลายตัวเร่งในกรดและเป็นกลาง pH กลางนี้สามารถอาจเป็นเพราะการย่อยสลายไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ ออกซิเจนและน้ำ เกิดขึ้นที่ความเป็นกรดสูง ค่า ข้อมูลจากงานวิจัยอื่นๆพบว่า pH มีผลต่อปฏิกิริยาออกซิเดชันอินทรีย์สารทั้งโดยตรงและโดยอ้อมและมันมีผลกับรุ่นของโอ้อนุมูลจึงเกิดประสิทธิภาพ ( กาลี et al . ,2001 )รังสีไมโครเวฟ ได้รับเรียบร้อยแล้วใช้ในเคมีอินทรีย์ ( hoz et al . , 2005 )ผลของการฉายรังสีไมโครเวฟในอินทรีย์การสังเคราะห์คือ การรวมกันของความร้อน ผลคือsuperheating , การก่อตัวของ ปอจาโพลาไรเซชันและหมุนแนว ( loupy , 2002 ) คล้ายกับ UV /