bles [1,19]. As a result, the hydro

bles [1,19]. As a result, the hydrophone detects a complicated
pressure oscillation, which is difficult to interpret directly. Therefore,
the frequency components are usually measured to get an
idea of the bubble oscillations. At very low pressure amplitudes,
bubbles will oscillate linearly and only the fundamental frequency
will be present in the spectrum. At higher pressure amplitudes,
non-linear effects will appear due to the non-linear bubble oscillation,
deviation from spherical motion, increase in bubble–bubble
interaction... [1]. Therefore, the final spectrum is calculated via
fast-fourier transformation of the recorded pressure signal.
To assess the nanoforce exerted by microbubbles on a surface,
SiO2 nanoparticles are deposited on a Si wafer. First, the 300 mm
Si wafers are given an in-house clean [20]. In the first step an oxidant
(sulfuric acid/ozone mixture) is used to remove the organic
contaminants from the surface and to form a uniform oxide over
the wafer. In the second step a HF based chemistry is used to remove
the oxide. At the same time it lifts off the particles and dissolves
the metals. After this step the surface is passivated again
in ozonated DI water to grow a clean chemical oxide and the wafers
are dried. The cleaned wafers are evaluated by measuring light
scattering in the haze mode. Next, 78 nm SiO2 particles are spin
coated on top of the wafer with a particle density of 106 particles/cm2
. The contaminated wafers are measured again by light
scattering and aged for 24 h. This aging results in an increase of
the particle–surface bonding force due to the formation of covalent
bonds [21,22]. The removal force of the aged particles is in the order
of 10 nN [11]. After the physical cleaning process, the wafers
are analyzed again by light scattering, which gives us an overview
of the areas where the particles are removed. In the cleaned areas,
the physical force exerted by oscillating bubbles was higher than
the adhesion force, while in the contaminated areas, the applied
physical force was lower. As a result, the cleaning procedure of a
deliberately contaminated wafer can be used as a nano pressure
sensing device. Particle removal efficiency (PRE) values are extracted
from the cleaning data as follows

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

bles [1,19] ดัง hydrophone ตรวจพบความซับซ้อนสั่นความดัน ที่ยากแก่การตีความโดยตรง ดังนั้นส่วนประกอบความถี่มักจะวัดจะได้รับการความคิดของแกว่งฟอง ในช่วงความดันต่ำมากฟองอากาศจะ oscillate เชิงเส้น และเฉพาะความถี่พื้นฐานจะอยู่ใน ในช่วงความดันสูงลักษณะพิเศษที่ไม่ใช่เชิงเส้นจะปรากฏขึ้นเนื่องจากการสั่นของฟองไม่ใช่เชิงเส้นความแตกต่างจากทรงกลมเคลื่อนไหว เพิ่มฟองฟองโต้ตอบ... [1] . ดังนั้น คำนวณสเปกตรัมสุดท้ายผ่านการแปลงฟูรีเยได้อย่างรวดเร็วของสัญญาณแรงดันที่บันทึกไว้การประเมิน nanoforce นั่นเอง โดย microbubbles บนพื้นผิวฝากเก็บกัก SiO2 บนแผ่นเวเฟอร์เป็นศรี แรก 300 มม.รับซีจะได้รับการบริการทำความสะอาด [20] ในขั้นตอนแรกการอนุมูลอิสระใช้เอาที่อินทรีย์ (ส่วนผสมกรดกำมะถัน/โอโซน)สารปนเปื้อน จากพื้นผิว และแบบออกไซด์สม่ำเสมอกว่าแผ่นเวเฟอร์ ในขั้นตอนสอง ใช้เคมี HF ใช้การเอาออกออกไซด์ ในเวลาเดียวกัน นั้นลิฟท์ปิดอนุภาค และละลายโลหะการ หลังจากขั้นตอนนี้ ผิวเป็น passivated อีกในน้ำ ozonated DI ออกไซด์เคมีทำความสะอาดและรับจะแห้ง รับทำความสะอาดจะถูกประเมิน โดยการวัดแสงโปรยในโหมดเมฆหมอก ถัดไป 78 nm SiO2 อนุภาคจะหมุนเคลือบบนแผ่นเวเฟอร์ด้วยอนุภาคหนาแน่นของอนุภาค 106/cm2. รับปนเปื้อนเป็นวัดอีกครั้ง โดยแสงscattering และ aged ใน 24 ชม อายุนี้ผลในการเพิ่มขึ้นของแรงยึดอนุภาค – พื้นผิวเนื่องจากการก่อตัวของ covalentพันธบัตร [21,22] แรงเอาอนุภาคอายุอยู่ในใบสั่งของ 10 nN [11] หลังจากขบวนการทำความสะอาดมีอยู่จริง รับวิเคราะห์อีกครั้ง โดย scattering แสง ซึ่งทำให้เราภาพพื้นที่ซึ่งอนุภาคนี้จะถูกเอาออก ในพื้นที่ทำความสะอาดแรงทางกายภาพนั่นเอง โดยขาฟองอากาศสูงกว่าแรงยึดเกาะ ในพื้นที่ปนเปื้อน การใช้แรงทางกายภาพลดลงได้ เป็นผล ขั้นตอนทำความสะอาดของสามารถใช้แผ่นเวเฟอร์ที่ปนเปื้อนโดยเจตนาเป็นความดันนาโนอุปกรณ์ไร้สาย ค่าประสิทธิภาพ (ก่อน) เอาอนุภาคที่สกัดจากข้อมูลทำความสะอาดเป็นดังนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

Bles [1.19] เป็นผลให้ hydrophone ตรวจพบซับซ้อน
สั่นความดันซึ่งเป็นเรื่องยากที่จะตีความโดยตรง ดังนั้น
องค์ประกอบความถี่จะถูกวัดมักจะได้รับ
ความคิดของการแกว่งฟอง ในช่วงกว้างของคลื่นความดันต่ำมาก
ฟองอากาศจะสั่นเป็นเส้นตรงและมีเพียงความถี่พื้นฐาน
จะอยู่ในสเปกตรัม ในช่วงกว้างของคลื่นความดันที่สูงขึ้น
ผลกระทบที่ไม่ใช่เชิงเส้นจะปรากฏขึ้นอันเนื่องมาจากความผันผวนฟองไม่เชิงเส้น
เบี่ยงเบนจากการเคลื่อนไหวทรงกลมเพิ่มขึ้นในฟองฟอง
ปฏิสัมพันธ์ ... [1] ดังนั้นคลื่นความถี่สุดท้ายที่มีการคำนวณผ่าน
การเปลี่ยนแปลงอย่างรวดเร็วฟูเรียร์ของสัญญาณแรงดันบันทึก.
เพื่อประเมิน NANOFORCE กระทำโดย microbubbles บนพื้นผิว,
อนุภาคนาโน SiO2 จะถูกวางลงบนแผ่นเวเฟอร์ศรี ครั้งแรกที่ 300 มม
เวเฟอร์ศรีจะได้รับการทำความสะอาดในบ้าน [20] ในขั้นตอนแรกอนุมูลอิสระ
(กรดซัลฟูริก / ส่วนผสมโอโซน) จะใช้ในการลบอินทรีย์
สารปนเปื้อนจากพื้นผิวและรูปแบบออกไซด์ที่สม่ำเสมอทั่ว
แผ่นเวเฟอร์ ในขั้นตอนที่สองตาม HF เคมีใช้ในการลบ
ออกไซด์ ในขณะเดียวกันก็ยกออกอนุภาคและละลาย
โลหะ หลังจากขั้นตอนนี้พื้นผิวที่ passivated อีกครั้ง
ในน้ำโอโซน DI จะเติบโตออกไซด์สารเคมีทำความสะอาดและเวเฟอร์
จะแห้ง เวเฟอร์ทำความสะอาดได้รับการประเมินโดยการวัดแสง
กระเจิงในโหมดหมอกควัน ถัดไป 78 นาโนเมตรอนุภาค SiO2 มีสปิน
เคลือบอยู่ด้านบนของแผ่นเวเฟอร์ที่มีความหนาแน่นของอนุภาค 106
อนุภาค / cm2 ช็อคโกแลตที่ปนเปื้อนที่วัดอีกครั้งโดยแสง
กระเจิงและผู้สูงอายุเป็นเวลา 24 ชั่วโมง นี้ส่งผลให้ริ้วรอยในการเพิ่ม
แรงยึดเกาะพื้นผิวอนุภาคเนื่องจากการก่อตัวของโควาเลนต์
พันธบัตร [21,22] แรงกำจัดของอนุภาคที่มีอายุอยู่ในลำดับ
ที่ 10 N: [11] หลังจากขั้นตอนการทำความสะอาดทางกายภาพเวเฟอร์
มีการวิเคราะห์อีกครั้งโดยการกระเจิงแสงซึ่งจะช่วยให้เราภาพรวม
ของพื้นที่ที่อนุภาคจะถูกลบออก ในพื้นที่ทำความสะอาด,
พละกำลังกระทำโดยฟองสั่นสูงกว่า
แรงยึดเกาะขณะที่ในพื้นที่ปนเปื้อนที่ใช้
พละกำลังลดลง เป็นผลให้ขั้นตอนการทำความสะอาดของ
เวเฟอร์ที่ปนเปื้อนจงใจสามารถใช้เป็นแรงดันนาโน
อุปกรณ์ตรวจจับ ประสิทธิภาพในการกำจัดอนุภาค (PRE) ค่าที่สกัด
จากข้อมูลการทำความสะอาดดังต่อไปนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

bles [ 1,19 ] ผล ตรวจพบการสั่นความดันไฮโดรโฟนซับซ้อน
ซึ่งเป็นเรื่องยากที่จะตีความโดยตรง ดังนั้น
วนความถี่มักจะวัดเพื่อให้ได้
ความคิดฟองการสั่น . ที่ความดันแรงบิดต่ำมาก
ฟองจะแกว่งไปมาเป็นเส้นตรงและมีเพียงความถี่มูลฐาน
จะอยู่ในสเปกตรัม ที่แรงดันสูงแรงบิด
,ไม่เป็นเชิงเส้น ผลจะปรากฏขึ้นเนื่องจากความผันผวนฟอง
เบี่ยงเบนจากทรงกลมไม่เชิงเส้น การเคลื่อนไหวที่เพิ่มขึ้นในฟองและฟอง
) . . . . . . . [ 1 ] ดังนั้น สเปกตรัมสุดท้ายคำนวณผ่าน
ฟูเรียร์อย่างรวดเร็วแปลงอัดแรงดันสัญญาณ
ประเมิน nanoforce นั่นเอง โดย microbubbles บนพื้นผิวซิลิกา , อนุภาคที่ฝากไว้บน
ชีเวเฟอร์ แรก , 300 มม.
ศรีเวเฟอร์จะได้รับภายในสะอาด [ 20 ] ในขั้นตอนแรกเป็นอนุมูลอิสระ
( กรดซัลฟูริค / โอโซนผสม ) ถูกใช้เพื่อเอาสารปนเปื้อนอินทรีย์
จากพื้นผิวและรูปแบบออกไซด์เครื่องแบบกว่า
เวเฟอร์ ในขั้นตอนที่สองเป็น HF ใช้เคมี ใช้ลบ
ออกไซด์ ในขณะเดียวกันก็ยกออกจากอนุภาคและละลาย
โลหะ หลังจากขั้นตอนนี้ผิวแข็งแรงอีกครั้ง
ดิ โอโซนความเข้มในน้ำที่จะเติบโตออกไซด์เคมีความสะอาดและเวเฟอร์
จะแห้ง ทำความสะอาดเวเฟอร์จะถูกประเมินโดยการวัดแสง
กระเจิงในโหมดหมอกควัน หน้า 78 nm พ่นอนุภาคสปิน
เคลือบบนแผ่นเวเฟอร์ที่มีความหนาแน่นอนุภาคของอนุภาค 106 / cm2

เวเฟอร์ที่ปนเปื้อนจะวัดอีกครั้งโดยแสง
กระจายและอายุ 24 ชั่วโมง นี้อายุมีผลในการเพิ่มขึ้นของ
อนุภาคพื้นผิวพันธะและแรงเนื่องจากการก่อตัวของโควาเลนต์พันธบัตร 21,22
[ ] การบังคับของผู้สูงอายุเหล่านี้ในการสั่งซื้อ
10 ต. [ 11 ] หลังจากขั้นตอนการทำความสะอาดทางกายภาพ , เวเฟอร์
วิเคราะห์อีกครั้งโดยการกระเจิงแสง ซึ่งช่วยให้เราภาพรวม
ของพื้นที่ที่อนุภาคจะถูกลบออก ในการทำความสะอาดพื้นที่
ร่างกายออกแรงโดยสั่นฟอง สูงกว่า
การบังคับในขณะที่ในบริเวณที่ปนเปื้อน การประยุกต์
ทางกายภาพแรงต่ำกว่า ผลการทำความสะอาดขั้นตอนของ
จงใจปนเปื้อน เวเฟอร์ สามารถใช้เป็นอุปกรณ์ตรวจวัดความดัน
นาโน . ประสิทธิภาพในการกำจัดอนุภาค ( pre ) คุณค่าสกัดจากข้อมูลดังนี้
ทําความสะอาด