Physical vapor deposition (PVD) is

Physical vapor deposition (PVD) is an established technology to obtain individually tailored surface coatings on various substrates [2,26]. For growth of epitaxial semiconductors, molecular beam epitaxy (MBE) or hyperthermal ion beam assisted MBE (IBA-MBE) is the method of choice , while optical coatings are mainly produced by magnetron sputtering .

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ไอจริงสะสม (PVD) เป็นเทคโนโลยีการสร้างรับเคลือบผิวเฉพาะแต่ละบนพื้นผิวต่าง ๆ [2,26] สำหรับการเติบโตของอิเล็กทรอนิกส์ epitaxial, epitaxy ลำโมเลกุล (MBE) หรือคานไอออน hyperthermal MBE ช่วย (อิบา-MBE) เป็นวิธีการเลือก ในขณะที่ส่วนใหญ่มีผลิตแสงเคลือบ โดย magnetron พ่น

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สะสมไอกายภาพ (PVD) เป็นเทคโนโลยีที่ได้รับการจัดตั้งขึ้นเพื่อออกแบบมาเฉพาะบุคคลเคลือบผิวบนพื้นผิวต่างๆ [2,26] สำหรับการเจริญเติบโตของเซมิคอนดักเตอร์ epitaxial, epitaxy โมเลกุลคาน (MBE) หรือลำแสงไอออน hyperthermal ช่วย MBE (IBA-MBE) เป็นวิธีการของทางเลือกในขณะที่เคลือบแสงที่ผลิตส่วนใหญ่โดยแมกสปัตเตอร์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

สะสมไอทางกายภาพ ( PVD ) คือ การสร้างเทคโนโลยีเพื่อให้ได้ผิวเคลือบบนพื้นผิวแบบปรับต่าง ๆ [ 2,26 ] สำหรับการเจริญเติบโตของ epitaxial เซมิคอนดักเตอร์ , สร้างลำแสงโมเลกุล ( MBE ) หรือ hyperthermal ลำแสงไอออนช่วย MBE ( iba-mbe ) เป็นวิธีการในการเลือก ในขณะที่การเคลือบเลนส์ที่ผลิตโดยส่วนใหญ่แมกนีตรอนสปัตเตอริง .