Work done at IMTNeuchatel in connec

Work done at IMT
Neuchatel in connection with deposition of mc-Si:H layers by very high frequency glow
discharge deposition is related in detail.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

งานที่ทำที่ IMTนอยชาเทิลกับสะสมของ mc-Si:H ชั้น โดยเรืองแสงความถี่สูงมากจำหน่ายสะสมเกี่ยวข้องในรายละเอียด

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

งานที่ทำที่ IMT
Neuchatel ในการเชื่อมต่อกับการทับถมของ MC-Si: H ชั้นโดยเรืองแสงที่มีความถี่สูงมาก
การสะสมปล่อยเป็นเรื่องที่เกี่ยวข้องในรายละเอียด

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

งานทำที่ก้าวหน้า
เนอชาแตลในการเชื่อมต่อกับการสะสมของเอ็มซี : H ชั้นความถี่สูงมาก เรืองแสง
จำหน่ายสะสมที่เกี่ยวข้องในรายละเอียด