XRD patterns of sample A (top) befo

XRD patterns of sample A (top) before and (bottom) after the treatment. The
pattern of the untreated tile showed peaks at 20.84 and 26.60 ascribable to (100)
and (011) reflections of quartz (labeled as #), while treated sample shows peaks at
20.20, 27.16, 35.84, 43.96, 52.32 and 53.64 ascribable to (100), (200), (112),
(301), (321), and (312) reflections of ZrSiO4, respectively (labeled as d).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

รูปแบบ XRD ของตัวอย่าง (ด้านบน) ก่อน และหลังการรักษา (ล่าง) ใน
ลวดลายของกระเบื้องไม่ถูกรักษาพบยอดที่ 20.84 26.60 ascribable (100)
และสะท้อน (011) ของควอตซ์ (ป้ายเป็น#), ในขณะที่ตัวอย่างการบำบัดแสดงยอดที่
20.20, 27.16, 35.84, 43.96, 52.32 และ 53.64 ascribable (100), (200), (112),
(301), (321), และสะท้อนของ ZrSiO4 (312) ตามลำดับ (ชื่อเป็น d) .

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

รูปแบบ XRD ของตัวอย่าง (บน) ก่อนและ (ล่าง) หลังการรักษา
รูปแบบของกระเบื้องที่ไม่ได้แสดงให้เห็นว่ายอดที่ 20.84? และ 26.60? เนื่องมาถึง (100)
และ (011) สะท้อนของผลึก (ป้าย #) ในขณะที่กลุ่มตัวอย่างได้รับการปฏิบัติที่แสดงให้เห็นยอดเขาที่
20.20 ?, 27.16 ?, 35.84 ?, 43.96 ?, 52.32? และ 53.64? เนื่องมาถึง (100) (200) (112)
(301) (321) และ (312) สะท้อนของ ZrSiO4 ตามลำดับ (ป้ายง)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

วิเคราะห์รูปแบบของตัวอย่าง ( ด้านบน ) และ ( ล่าง ) หลังการรักษา
ลวดลายของกระเบื้องดิบ พบยอดที่ซึ่ง  และ 26.60  ascribable ( 100 )
( 011 ) ภาพสะท้อนของควอทซ์ ( ระบุว่าเป็น# ) ในขณะที่ปฏิบัติ ตัวอย่างแสดงยอดที่ 
องศาเซลเซียส ,  27.16 35.84  43.96  , , , และ 52.32  53.64  ascribable ( 100 ) ( 200 ) ( 112 )
( 301 ) ( 321 ) , และ ( 312 ) zrsio4 สะท้อน ,ตามลำดับ ( ถูก
d )