Temperature changes during processi

Temperature changes during processing were compared between
ohmic and retort heating (Fig. 5). Temperature increase from 14 °C to
121 °C was faster by approximately 15 min under ohmic heating than
retort heating. Under retort heating, initially, the temperature increased
quickly, but the time taken to reach 70 °C was almost the same as that
under ohmic heating.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เปลี่ยนแปลงของอุณหภูมิในระหว่างการประมวลผลถูกเปรียบเทียบระหว่างแบบโอห์มมิค และย้อนความร้อน (Fig. 5) เพิ่มอุณหภูมิ 14 ° c จะ121 ° C ความเร็ว โดยประมาณ 15 นาทีภายใต้ความร้อนแบบโอห์มมิคกว่าตอบโต้ความร้อน ภายใต้ความร้อน ตอนแรก ย้อนอุณหภูมิเพิ่มขึ้นอย่างรวดเร็ว แต่เวลาที่ใช้ถึง 70 ° C เกือบเหมือนกับภายใต้ความร้อนแบบโอห์มมิค

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การเปลี่ยนแปลงของอุณหภูมิระหว่างการประมวลผลเปรียบเทียบระหว่าง
ความร้อน ohmic และโต้ (รูปที่. 5) การเพิ่มขึ้นของอุณหภูมิ 14 ° C ถึง
121 ° C ได้เร็วประมาณ 15 นาทีภายใต้ความร้อน ohmic กว่า
ความร้อนโต้ ภายใต้ความร้อนโต้ต้นอุณหภูมิที่เพิ่มขึ้น
อย่างรวดเร็ว แต่เวลาที่ไปถึง 70 องศาเซลเซียสเป็นเวลาเกือบเช่นเดียวกับที่
อยู่ภายใต้ความร้อน ohmic

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การเปลี่ยนแปลงของอุณหภูมิในระหว่างการประมวลผล เปรียบเทียบระหว่างค่าความร้อนกับน้ำ
( รูปที่ 5 ) อุณหภูมิเพิ่มขึ้นจาก 14 ° C

C 121 องศาขึ้น ประมาณ 15 นาที ภายใต้ความร้อนมากกว่า
ย้อนค่าความร้อน ภายใต้ความร้อนฆ่าเชื้อในอุณหภูมิเพิ่มขึ้น
ได้อย่างรวดเร็ว แต่เวลาถ่ายถึง 70 องศา C ก็เกือบเหมือนกัน
ภายใต้ความร้อนค่า .