FTIR absorption spectra of the synthesized sols, coat- ings, and films  การแปล - FTIR absorption spectra of the synthesized sols, coat- ings, and films  ไทย วิธีการพูด

FTIR absorption spectra of the synt

FTIR absorption spectra of the synthesized sols, coat- ings, and films were obtained using a Nicolet 550 spectrometer. The synthesized ZrO2 sol was dropped onto a KBr disk and dried in vacuum. For the cured sample, the coating sol was dropped onto a KBr disk, pre-baked at 80C, then UV-cured, and post-baked at 100C. For all scans, the spectra were collected over the wavenumber range of 400–4000 cm1 with a resolution of 4 cm1. Solid-state 29Si-NMR spectra of the cured coatings were recorded on a Bruker DSX400 WB spectrometer at 79.49 MHz. The chemical shifts were expressed in ppm with respect to tetramethylsilane. The size of ZrO2 particles suspended in the sol was deter- mined by dynamic light scattering (DLS), using a Zetasizer (Malvern, DTS 3000HS) at 25C at the concentration of 0.5 wt%. Morphology of the cured films was observed using a Leo 1530 field emission scanning electron microscope (FE-SEM). The samples werevacuum-driedandthenfracturedinliquidnitrogen to expose the cross section. Tape test (ASTM D3359), also called peel test, was carried out to evaluate the adhesion strength of cured coatings on the PMMA substrate. The degree of adhesion was recorded as the percentage of the residual film on the substrate after peeling by standard tapes (3M-610). The hardness (ASTM D3363) of the cured coatings was examined by the widely used pencil hardness test, using pencils of different hardness. The surface electric resistivity (ASTM D257) of the cured antistatic film was measured usingaHIOKISM-8200megohmmeterandanSM-8310 plate electrode at 1 kV and 60 s electrification time.
0/5000
จาก: -
เป็น: -
ผลลัพธ์ (ไทย) 1: [สำเนา]
คัดลอก!
สเปกตรัมการดูดซึมของ FTIR sols สังเคราะห์ ตราพูด และ films ได้รับโดยใช้สเปกโตรมิเตอร์ Nicolet 550 โซล ZrO2 สังเคราะห์ถูกทิ้งบนดิสก์ KBr และแห้งในสุญญากาศ สำหรับตัวอย่างหาย โซลเคลือบได้กระตุกในดิสก์ KBr อบก่อนที่ 80 C แล้ว UV-หาย และหลังอบที่ 100 c ครับ สเป็คถูกเก็บรวบรวมผ่านช่วง wavenumber 400 – 4000 ซม. 1 ความละเอียด 4 ซม. 1 โซลิดสเตท 29Si-NMR สเปกตรัมเคลือบหายมีบันทึกไว้เป็นสเปกโตรมิเตอร์ Bruker DSX400 WB ที่ 79.49 MHz กะเคมีถูกแสดงใน ppm เกี่ยวกับ tetramethylsilane ขนาดของอนุภาค ZrO2 ในโซลถูกขัดขวาง - การแสงแบบไดนามิก scattering (DLS), โดยใช้ Zetasizer (มัลเวิร์น DTS 3000HS) ที่ 25 C ที่ความเข้มข้น 0.5% wt สัณฐานวิทยาของ films หายถูกตรวจสอบโดยใช้ลีโอ 1530 เนื้อหาปล่อยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด (FE SEM) ในตัวอย่าง werevacuum-driedandthenfracturedinliquidnitrogen การเปิดเผยส่วนข้าม เรียกว่าการทดสอบเปลือก ทดสอบเทป (ASTM D3359), ดำเนินการเพื่อประเมินความแข็งแรงยึดเกาะของหายเคลือบบนพื้นผิว PMMA ระดับของการยึดเกาะที่ถูกบันทึกเป็นเปอร์เซ็นต์ของภาพยนตร์ตกค้างบนพื้นผิวหลังจากปอกเปลือก โดยมาตรฐานเทป (3M-610) (ASTM D3363) ความแข็งของเคลือบหายถูกตรวจสอบ โดยการทดสอบความแข็งใช้ดินสอ ใช้ดินสอของแข็งแตกต่างกัน ผิวไฟฟ้าต้าน (ASTM D257) ภาพยนตร์ป้องกันไฟฟ้าสถิตหายเป็นอิเล็กโทรดวัด usingaHIOKISM-8200megohmmeterandanSM-8310 แผ่น 1 kV และ 60 s electrification เวลา
การแปล กรุณารอสักครู่..
ผลลัพธ์ (ไทย) 2:[สำเนา]
คัดลอก!
FTIR ดูดซึมสเปกตรัมของรัชทายาทสังเคราะห์ Ings สารเคลือบผิวและ LMS Fi ได้รับใช้ Nicolet 550 สเปกโตรมิเตอร์ สังเคราะห์ ZrO2 Sol ถูกทิ้งลงบนดิสก์ KBr และแห้งในสูญญากาศ สำหรับตัวอย่างหายโซลสารเคลือบผิวที่ถูกทิ้งลงบนดิสก์ KBr ก่อนอบที่ 80 องศาเซลเซียสแล้ว UV-หายและหลังการอบที่ 100 องศาเซลเซียส การสแกนทั้งหมดสเปกตรัมที่ถูกเก็บรวบรวมในช่วงของ wavenumber 400-4000 ซม. 1 ที่มีความละเอียด 4 ซม. 1 solid-state-29Si NMR สเปกตรัมของการเคลือบรักษาให้หายขาดได้ถูกบันทึกไว้ในสเปกโตรมิเตอร์ Bruker DSX400 WB ที่ 79.49 MHz กะเคมีแสดงใน ppm ส่วนที่เกี่ยวกับ tetramethylsilane ขนาดของอนุภาคแขวนลอยใน ZrO2 Sol ถูกยับยั้งขุดโดยการกระเจิงของแสงแบบไดนามิก (DLS) โดยใช้ Zetasizer (เวิร์น, DTS 3000HS) อยู่ที่ 25 องศาเซลเซียสที่ความเข้มข้น 0.5% โดยน้ำหนัก สัณฐานวิทยาของ LMS Fi หายก็สังเกตเห็นโดยใช้ลีโอ 1530 Fi กล้องจุลทรรศน์ ELD การปล่อยอิเล็กตรอนสแกน (FE-SEM) กลุ่มตัวอย่าง werevacuum-driedandthenfracturedinliquidnitrogen เพื่อแสดงภาพตัดขวาง ทดสอบเทป (ASTM D3359) เรียกว่าการทดสอบเปลือกได้ดำเนินการในการประเมินความแข็งแรงของการยึดเกาะของสารเคลือบหายบนพื้นผิว PMMA ระดับของการยึดเกาะที่ได้รับการบันทึกเป็นร้อยละของ LM Fi ตกค้างบนพื้นผิวหลังจากปอกเปลือกโดยเทปมาตรฐาน (3M-610) ความแข็ง (ASTM D3363) ของการเคลือบรักษาให้หายขาดได้รับการตรวจสอบโดยการทดสอบความแข็งดินสอใช้กันอย่างแพร่หลายโดยใช้ดินสอของความแข็งที่แตกต่างกัน พื้นผิวความต้านทานไฟฟ้า (ASTM D257) ของหาย LM Fi ป้องกันไฟฟ้าสถิตวัด usingaHIOKISM-8200megohmmeterandanSM-8310 อิเล็กโทรดแผ่นที่ 1 กิโลโวลต์และเวลา Fi ไอออนบวก 60 s electri
การแปล กรุณารอสักครู่..
 
ภาษาอื่น ๆ
การสนับสนุนเครื่องมือแปลภาษา: กรีก, กันนาดา, กาลิเชียน, คลิงออน, คอร์สิกา, คาซัค, คาตาลัน, คินยารวันดา, คีร์กิซ, คุชราต, จอร์เจีย, จีน, จีนดั้งเดิม, ชวา, ชิเชวา, ซามัว, ซีบัวโน, ซุนดา, ซูลู, ญี่ปุ่น, ดัตช์, ตรวจหาภาษา, ตุรกี, ทมิฬ, ทาจิก, ทาทาร์, นอร์เวย์, บอสเนีย, บัลแกเรีย, บาสก์, ปัญจาป, ฝรั่งเศส, พาชตู, ฟริเชียน, ฟินแลนด์, ฟิลิปปินส์, ภาษาอินโดนีเซี, มองโกเลีย, มัลทีส, มาซีโดเนีย, มาราฐี, มาลากาซี, มาลายาลัม, มาเลย์, ม้ง, ยิดดิช, ยูเครน, รัสเซีย, ละติน, ลักเซมเบิร์ก, ลัตเวีย, ลาว, ลิทัวเนีย, สวาฮิลี, สวีเดน, สิงหล, สินธี, สเปน, สโลวัก, สโลวีเนีย, อังกฤษ, อัมฮาริก, อาร์เซอร์ไบจัน, อาร์เมเนีย, อาหรับ, อิกโบ, อิตาลี, อุยกูร์, อุสเบกิสถาน, อูรดู, ฮังการี, ฮัวซา, ฮาวาย, ฮินดี, ฮีบรู, เกลิกสกอต, เกาหลี, เขมร, เคิร์ด, เช็ก, เซอร์เบียน, เซโซโท, เดนมาร์ก, เตลูกู, เติร์กเมน, เนปาล, เบงกอล, เบลารุส, เปอร์เซีย, เมารี, เมียนมา (พม่า), เยอรมัน, เวลส์, เวียดนาม, เอสเปอแรนโต, เอสโทเนีย, เฮติครีโอล, แอฟริกา, แอลเบเนีย, โคซา, โครเอเชีย, โชนา, โซมาลี, โปรตุเกส, โปแลนด์, โยรูบา, โรมาเนีย, โอเดีย (โอริยา), ไทย, ไอซ์แลนด์, ไอร์แลนด์, การแปลภาษา.

Copyright ©2025 I Love Translation. All reserved.

E-mail: