UV-visible absorption spectra for v

UV-visible absorption spectra for various GO dispersions were collected with a Jasco V-670 spectrophotometer using a 10 mm quartz cell. The microstructure of the GO samples on a gold
substrate was investigated by a eld emission scanning electron microscopy (FE-SEM, JEOL JSM-6700F). Atomic force microscopy (AFM) images of GO-1 and GO-3 were obtained using an AFM-Nano Wizard in tapping mode with a Si tip on the Si/SiO2 substrate. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis was performed on a theta probe ESCA VG Scientic (2002) using monochromatic AlKa as the exciting source. The peak positions of the XPS were adjusted carefully with respect to the Au 4f peak because of the insulating character of GO. Finally, the XPS spectra were deconvoluted by using the Voigt tting function aer a Shirley background subtraction procedure. Gas chromatography (GC) analyses were performed on a GC-FID-CHINA CHROMATOGRAPHY 9800 system (glass column Porapak Q (80–100 mesh), inj. temp. 110 C, FID temp. 150 C and oven temp. 130 C). GC-MS analyses were performed on a GC (HP 6890)/MS (HP 5973) system (column-Agilent DB-624, inj. temp. 250 C and oven temp. 40 C).

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

สเปกตรัมการดูดซึมรังสียูวีที่มองเห็นสำหรับกระจายไปต่างๆที่ถูกเก็บรวบรวมด้วย Jasco spectrophotometer V-670 ใช้ 10 มมเซลล์ควอทซ์ จุลภาคของตัวอย่าง GO
ทองการให้พื้นผิวที่ได้รับการตรวจสอบโดยการปล่อยeldสแกนกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน(FE-SEM, JEOL JSM-6700F) กล้องจุลทรรศน์แรงอะตอม (AFM) ภาพของ GO-1 และ GO-3 ที่ได้รับการใช้ตัวช่วยสร้าง AFM-Nano ในโหมดแตะกับปลายบนศรีศรี / สารตั้งต้น SiO2 เอ็กซ์เรย์สเปคโทรโฟโตอิเล็กตรอน (XPS) การวิเคราะห์กำลังดำเนินการสอบสวนที ESCA VG Scientic (2002) โดยใช้ Alka เดียวเป็นแหล่งที่น่าตื่นเต้น ตำแหน่งสูงสุดของ XPS ถูกปรับอย่างระมัดระวังด้วยความเคารพสูงสุด Au 4 เพราะตัวละครของฉนวน GO สุดท้ายสเปกตรัม XPS ถูก deconvoluted โดยใช้ฟังก์ชั่นยต์ttingaerขั้นตอนการลบพื้นหลังเชอร์ลี่ย์ แก๊ส chromatography (GC) วิเคราะห์ได้ดำเนินการใน GC-FID จีน Chromatography 9800 ระบบ (คอลัมน์แก้ว Porapak Q (80-100 ตาข่าย) inj. ชั่วคราว. 110? C, FID ชั่วคราว. 150 องศาเซลเซียสและอุณหภูมิเตาอบ. 130? C) GC-MS วิเคราะห์ได้ดำเนินการใน GC (HP 6890) / MS (HP 5973) ระบบ (คอลัมน์ Agilent DB-624, inj. ชั่วคราว. 250 องศาเซลเซียสและอุณหภูมิเตาอบ. 40? C)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การดูดกลืนรังสี UV มองเห็นสำหรับ dispersions ไปต่างๆ ศึกษาด้วย jasco v-670 เครื่องใช้ 10 มม. ควอทซ์เซลล์ โครงสร้างจุลภาคของไปตัวอย่างบนทอง
พื้นผิวถูกสอบสวนโดยปล่อยละมั่ง กล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนชนิดส่องกราด ( fe-sem จอล , jsm-6700f )กล้องจุลทรรศน์แรงอะตอม ( AFM ) และภาพ go-1 go-3 ได้ใช้ AFM นาโนพ่อมดในโหมดเคาะกับทิพย์ศรีศรี / พ่นบนพื้นผิว เครื่อง X-ray photoelectron spectroscopy ( XPS ) การวิเคราะห์ใน Theta โพรบเอสคา VG scienti  C ( 2002 ) ใช้สําหรับ alka เป็นแหล่งที่น่าตื่นเต้นในตำแหน่งสูงสุดของ XPS ปรับข้อมูลอย่างระมัดระวังด้วยความเคารพสูงสุด หรือ แทนที่เพราะฉนวนของตัวละครไป ในที่สุด , XPS spectra ถูก deconvoluted โดยใช้วอยก์ตตัดฟังก์ชันเป็นเอ้อ Shirley การลบฉากหลังขั้นตอน แก๊สโครมาโทกราฟี ( GC ) และมีการปฏิบัติใน gc-fid-china โครมทั้งระบบ ( คอลัมน์แก้ว porapak Q ( 80 – 100 ตาข่าย ) inj .ชั่วคราว 110  C , FID ชั่วคราว  เตาอบอุณหภูมิ 150 องศาเซลเซียส และ . 130  C ) และวิเคราะห์ข้อมูลแสดงบน GC / MS ( HP 6890 ) ( HP 5973 ) ระบบ ( คอลัมน์ด้าน db-624 , inj . ชั่วคราว 250  C และเตาอบที่อุณหภูมิ 40  C )