The analysis of results obtained by

The analysis of results obtained by spectroscopic
methods such as FTIR spectroscopy, AES and XPS showed that
SiCxNy films are compound in which there is chemical bonding
among main Si, N, and C elements together with hydrogen (Si–
CH3, Si–CH2–Si, C–H, N–H, Si–H) and oxygen (Si–O)
bonds. Thus SiCxNyOz:H formula is more correct for low
temperature silicon carbonitride films

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

วิเคราะห์ผลที่ได้รับจากสเปคตรัมวิธีการเช่น FTIR สเปกโทรสโก AES และ XPS แสดงให้เห็นว่าฟิล์ม SiCxNy เป็นสารประกอบที่มีพันธะเคมีระหว่างองค์ประกอบหลักสี่ N และ C ร่วมกับไฮโดรเจน (ศรี –CH3 ศรี – CH2 – Si, C – H, N – H ศรี – H) และออกซิเจน (ศรี – O)พันธบัตร ดังนั้น สูตร SiCxNyOz:H ถูกต้องมากน้อยอุณหภูมิซิลิคอน carbonitride ฟิล์ม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

การวิเคราะห์ผลที่ได้รับจากสเปกโทรสโก
วิธีการเช่นเครื่อง FTIR, AES และ XPS แสดงให้เห็นว่า
ภาพยนตร์ SiCxNy เป็นสารประกอบที่มีพันธะเคมี
ในหมู่หลักองค์ประกอบศรี, N และ C ร่วมกับไฮโดรเจน (Si-
CH3, Si-CH2 ศรี C-H, N-H, Si-H) และออกซิเจน (Si-O)
พันธบัตร ดังนั้น SiCxNyOz: สูตร H ถูกต้องมากขึ้นสำหรับต่ำ
อุณหภูมิฟิล์มซิลิกอน carbonitride

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

การวิเคราะห์ผลโดยสเปกโทรสโกปีวิธีการเช่น FTIR spectroscopy , AES และเอ็กซ์เรย์ พบว่าภาพยนตร์ sicxny เป็นสารประกอบซึ่งมีพันธะเคมีระหว่างหลักศรี , N , C องค์ประกอบด้วยกันกับไฮโดรเจน ( ศรีจำกัดCH3 , ศรี ( C ) C - H , N จังหวัด – H , ศรี ( H ) และออกซิเจน ( ศรี ( O )พันธบัตร ดังนั้น sicxnyoz : H สูตรถูกต้องมากขึ้นสำหรับน้อยอุณหภูมิ carbonitride ฟิล์มซิลิคอน