Paraffin was deposited and patterned by lift-off on a 3 in.diameter 1  การแปล - Paraffin was deposited and patterned by lift-off on a 3 in.diameter 1  ไทย วิธีการพูด

Paraffin was deposited and patterne

Paraffin was deposited and patterned by lift-off on a 3 in.
diameter 1 mm thick cyclic olefin copolymer (COC) wafer using
positive AZ P4620 photoresist (Clariant Inc.). The process is
illustrated in Fig. 3. After cleaning with isopropyl alcohol, the
COC wafer was spin coated with a 20m thick layer of AZ
P4620. The photoresist was soft baked in a 65 ◦C oven for
12 min. Following standard UV exposure, the resist was developed
in AZ400K developer diluted with water in a ratio of 1:3.5
(v:v). Paraffin was deposited on the COC surface by spin coating.
Tissue Prep paraffin pellets and organic solvent OpticlearTM
(Logitech) were mixed in a ratio of 1:2 (v:v). The mixture was
heated inside a 60 ◦C convection oven to speedup the paraffin
dissolution. A conventional 150 W light bulb was used to preheat
the COC wafer surface for 2 min prior to deposition. The
paraffin–OpticlearTM mixture was poured onto the preheated
COC surface, and paraffin was spin coated using a 10 s spread
at 500 rpm followed by a 20 s coat at 3000 rpm. OpticlearTM
was evaporated by placing the coated COC wafers on a leveled
35 ◦C hotplate for 12 h. Following paraffin deposition, AZ
P4620 was lifted-off using pure, undiluted AZ400K developer
under controlled agitation. Final thickness of the paraffin film
0/5000
จาก: -
เป็น: -
ผลลัพธ์ (ไทย) 1: [สำเนา]
คัดลอก!
พาราฟินฝาก และลวดลาย โดย lift-off บน 3 ในเส้นผ่าศูนย์กลาง 1 มม.หนา olefin ทุกรอบโคพอลิเมอร์ (COC) ขัดแผ่นโดยใช้photoresist AZ P4620 บวก (Clariant Inc.) กระบวนการใข Fig. 3 หลังจากทำความสะอาดด้วยแอลกอฮอล์ isopropyl การคอช wafer ถูกเคลือบ ด้วยชั้นหนา 20m ของ AZ หมุนP4620 มี photoresist นุ่มอบในเตาอบ ◦C 65 สำหรับ12 นาที ต่อรังสีมาตรฐาน ต่อต้านการพัฒนาในการพัฒนา AZ400K ผสมกับน้ำในอัตราส่วนของ 1:3.5(v: v) . พาราฟินถูกฝากบนผิว COC โดยเคลือบหมุนเนื้อเยื่อเตรียมพาราฟินขี้และ OpticlearTM เป็นตัวทำละลายอินทรีย์(Logitech) ได้ผสมกันในอัตราส่วน 1:2 (v: v) ถูกผสมความร้อนภายในเตาอบการพา ◦C 60 เพื่อ speedup พาราฟินยุบ แบบธรรมดา 150 W หลอดไฟถูกใช้เพื่อทำให้ร้อนก่อนพื้นผิวแผ่นเวเฟอร์ COC สำหรับ 2 นาทีก่อนที่จะสะสม ที่ผสมพาราฟิน – OpticlearTM ได้ poured ลงที่ต่ำผิวคอช พาราฟินไม่หมุนเคลือบใช้แพร่กระจายเป็น s 10ที่ 500 รอบต่อนาทีตาม ด้วยเสื้อ s 20 ที่ 3000 rpm OpticlearTMได้หายไป ด้วยรับ COC เคลือบในที่จำกัดแห่ง 35 ◦C สำหรับ 12 h ต่อไปนี้สะสมพาราฟิน AZP4620 ถูกยกลงใช้บริสุทธิ์ หัว AZ400K พัฒนาภายใต้การควบคุมอาการกังวลต่อการ สุดท้ายความหนาของฟิล์มพาราฟิน
การแปล กรุณารอสักครู่..
ผลลัพธ์ (ไทย) 2:[สำเนา]
คัดลอก!
พาราฟินถูกวางและลวดลายด้วยลิฟท์ออกใน 3.
ขนาดเส้นผ่าศูนย์กลาง 1 มิลลิเมตรหนาพอลิโอเลฟินวงจร (COC)
โดยใช้แผ่นเวเฟอร์บวกAZ P4620 ไวแสง (Clariant อิงค์)
กระบวนการนี้แสดงให้เห็นในรูป 3. หลังจากทำความสะอาดด้วยแอลกอฮอล์ isopropyl
ที่เวเฟอร์COC ได้รับการสปินเคลือบด้วย 20m ชั้นหนา AZ
P4620 ไวแสงได้รับการอบอ่อนในเตาอบ◦C 65 สำหรับ
12 นาที ต่อไปนี้การสัมผัสรังสียูวีมาตรฐานต่อต้านได้รับการพัฒนาใน AZ400K พัฒนาเจือจางกับน้ำในอัตราส่วน 1: 3.5 (V: V) พาราฟินถูกวางบนพื้นผิวเคลือบ COC โดยสปิน. เนื้อเยื่อเตรียมเม็ดพาราฟินและตัวทำละลายอินทรีย์ OpticlearTM (โลจิเทค) ได้รับการผสมในอัตราส่วน 1: 2 (V: V) ส่วนผสมที่ถูกความร้อนภายใน 60 ◦Cเตาอบพาไป speedup พาราฟินสลายตัว แบบธรรมดา 150 หลอดไฟวัตต์ถูกใช้ในการอุ่นพื้นผิวเวเฟอร์COC สำหรับ 2 นาทีก่อนที่จะมีการสะสม ส่วนผสมพาราฟิน OpticlearTM ถูกเทลงบนอบอุ่นพื้นผิวCOC และพาราฟินเคลือบโดยใช้สปินเป็น 10 วินาทีแพร่กระจายที่500 รอบต่อนาทีตามด้วยเสื้อ s 20 ที่ 3000 รอบต่อนาที OpticlearTM ถูกระเหยโดยการวางเวเฟอร์เคลือบ COC ในระดับ35 ◦Cร้อนเป็นเวลา 12 ชั่วโมง ต่อไปนี้การสะสมพาราฟิน, AZ P4620 ถูกยกออกใช้บริสุทธิ์พัฒนา AZ400K เจือปนอยู่ภายใต้การควบคุมการกวน ความหนาสุดท้ายของภาพยนตร์พาราฟิน














การแปล กรุณารอสักครู่..
ผลลัพธ์ (ไทย) 3:[สำเนา]
คัดลอก!
พาราฟินฝากและลวดลาย โดยยกออกบน 3 .
เส้นผ่านศูนย์กลาง 1 มม. หนาเป็นพอลิโอเลฟิน ( COC ) เวเฟอร์ใช้
บวก AZ p4620 photoresist ( clariant Inc . ) กระบวนการ
แสดงในรูปที่ 3 หลังจากทำความสะอาดด้วยไอโซโพรพิลแอลกอฮอล์
ก๊กถูกหมุนเวเฟอร์เคลือบด้วย 20m ชั้นหนาของ AZ
p4620 . ส่วนระบบนุ่มอบในเตาอบสำหรับ 65 ◦ C
12 นาทีต่อแสง UV มาตรฐาน ต่อต้านการพัฒนา
ด้าน az400k เจือจางด้วยน้ำในอัตราส่วน 1:3.5
( v : V ) พาราฟินฝากบนพื้นผิวที่เคลือบด้วยเส้นทางปั่น
เนื้อเยื่อเตรียมอัดเม็ดและพาราฟินละลายอินทรีย์
opticleartm ( Logitech ) มาผสมในอัตราส่วน 1 : 2 ( 5 : 5 ) ส่วนผสม
อุ่นภายใน 60 ◦ C แบบเตาอบ SpeedUp พาราฟิน
การละลายปกติ 150 W หลอดไฟที่ใช้เปิด
ก๊กแผ่นพื้นผิว 2 นาทีก่อนการ
opticleartm ผสมพาราฟินและเทลงบนพื้นผิวเตาอบ
ก๊ก และพาราฟินคือปั่นใช้สี 10 กระจาย
500 รอบต่อนาที ตามด้วย 20 S เสื้อที่ 3000 รอบต่อนาที opticleartm
ถูกระเหยโดยการวางรับก็อกเคลือบบนเตียน
3 ◦ C เครื่องวัดสำหรับ 12 ชั่วโมงต่อไปนี้พาราฟินสะสม , AZ
p4620 ถูกยกขึ้นปิดใช้บริสุทธิ์เจือปน พัฒนา az400k
ควบคุมเขย่า ความหนาของฟิล์ม
สุดท้ายพาราฟิน
การแปล กรุณารอสักครู่..
 
ภาษาอื่น ๆ
การสนับสนุนเครื่องมือแปลภาษา: กรีก, กันนาดา, กาลิเชียน, คลิงออน, คอร์สิกา, คาซัค, คาตาลัน, คินยารวันดา, คีร์กิซ, คุชราต, จอร์เจีย, จีน, จีนดั้งเดิม, ชวา, ชิเชวา, ซามัว, ซีบัวโน, ซุนดา, ซูลู, ญี่ปุ่น, ดัตช์, ตรวจหาภาษา, ตุรกี, ทมิฬ, ทาจิก, ทาทาร์, นอร์เวย์, บอสเนีย, บัลแกเรีย, บาสก์, ปัญจาป, ฝรั่งเศส, พาชตู, ฟริเชียน, ฟินแลนด์, ฟิลิปปินส์, ภาษาอินโดนีเซี, มองโกเลีย, มัลทีส, มาซีโดเนีย, มาราฐี, มาลากาซี, มาลายาลัม, มาเลย์, ม้ง, ยิดดิช, ยูเครน, รัสเซีย, ละติน, ลักเซมเบิร์ก, ลัตเวีย, ลาว, ลิทัวเนีย, สวาฮิลี, สวีเดน, สิงหล, สินธี, สเปน, สโลวัก, สโลวีเนีย, อังกฤษ, อัมฮาริก, อาร์เซอร์ไบจัน, อาร์เมเนีย, อาหรับ, อิกโบ, อิตาลี, อุยกูร์, อุสเบกิสถาน, อูรดู, ฮังการี, ฮัวซา, ฮาวาย, ฮินดี, ฮีบรู, เกลิกสกอต, เกาหลี, เขมร, เคิร์ด, เช็ก, เซอร์เบียน, เซโซโท, เดนมาร์ก, เตลูกู, เติร์กเมน, เนปาล, เบงกอล, เบลารุส, เปอร์เซีย, เมารี, เมียนมา (พม่า), เยอรมัน, เวลส์, เวียดนาม, เอสเปอแรนโต, เอสโทเนีย, เฮติครีโอล, แอฟริกา, แอลเบเนีย, โคซา, โครเอเชีย, โชนา, โซมาลี, โปรตุเกส, โปแลนด์, โยรูบา, โรมาเนีย, โอเดีย (โอริยา), ไทย, ไอซ์แลนด์, ไอร์แลนด์, การแปลภาษา.

Copyright ©2025 I Love Translation. All reserved.

E-mail: