TiCxOy films with various O/Ti rati

TiCxOy films with various O/Ti ratios have been deposited by DC magnetron sputtering, using C pieces incrusted in a Ti target erosion area.
Composition analysis revealed the existence of three different growth regimes: (i) zone I, corresponding to films with metallic-like appearance, and
atomic ratios O/Ti below one; (ii) zone II, with films revealing interference-like colours, and atomic ratios O/Ti higher than 2. Between these two
regions, there was a transition zone T, where the atomic ratio O/Ti is between one and two. The films within this zone revealed a brown colour. X-ray
diffraction (XRD) structural characterization results showed an evolution from a mixed Ti(C,O) phase at lower O/Ti ratio, to a quasi-amorphous
structure within zone T, and poorly crystallized rutile and anatase TiO2 at the highest O/Ti ratios (zone II). These different structural arrangements
resulting from different film's compositions had clear effects on electrical resistivity, whose values increased from about 7× 102 to 2 × 1011 μΩ cm
with increase of the O/Ti ratio. Fourier-transform infrared spectroscopy (FTIR) was used to further confirm the different nature of films structure and,
thus, to better understand their properties variation. The observed behaviour was found to be in straight correlation with those of XRD.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ฟิล์ม TiCxOy มีอัตราส่วน O/ตี้ ต่าง ๆ มีการฝากเงิน โดย DC magnetron พ่น ใช้ชิ้น C incrusted ในพื้นที่กัดเซาะตี้เป้าหมายการดำรงอยู่ของระบอบการเจริญเติบโตแตกต่างกันสามเปิดเผยวิเคราะห์องค์ประกอบ: (i) โซน I จะมีลักษณะเหมือนโลหะ และอัตราส่วนอะตอม O/ตี้ ล่างหนึ่ง (ii) โซน II กับฟิล์มเปิดเผยเช่นสัญญาณรบกวนสี และอัตราส่วนอะตอม O/ตี้ สูงกว่า 2 ระหว่างสองภูมิภาค มีโซนเปลี่ยน T อัตราส่วนอะตอม O/ตี้ อยู่ระหว่างหนึ่งถึงสอง ฟิล์มภายในโซนนี้เปิดเผยมีสีน้ำตาล เอ็กซ์เรย์ผลการจำแนกโครงสร้างของการเลี้ยวเบน (XRD) แสดงให้เห็นวิวัฒนาการจากระยะ Ti(C,O) ผสมที่อัตราส่วน O/ตี้ ล่าง การไปกึ่งโครงสร้างภายในโซน T และงานตกผลึก rutile และ anatase TiO2 ที่ O/ตี้ อัตราสูงสุด (โซน II) จัดโครงสร้างต่าง ๆ เหล่านี้เป็นผลมาจากองค์ของฟิล์มแตกต่างกันมีผลชัดเจนในความต้านทานไฟฟ้า ค่าเพิ่มขึ้นจากประมาณ 7 × 102 2 × 1011 μΩซมกับการเพิ่มขึ้นของอัตราส่วน O/ตี้ การแปลงฟูรีเยกอินฟราเรด (FTIR) ถูกใช้เพื่อยืนยันต่อ ลักษณะต่าง ๆ ของโครงสร้างของฟิล์ม และดังนั้น เพื่อเข้าใจการเปลี่ยนแปลงคุณสมบัติของพวกเขา พฤติกรรมที่สังเกตพบในความสัมพันธ์ตรงกับ XRD

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพยนตร์ต่างๆ TiCxOy กับ O / อัตราส่วน Ti ได้รับการฝากโดยสปัตเตอร์ซีแมกนีตรอนโดยใช้ชิ้น C incrusted ในพื้นที่กัดเซาะเป้าหมาย Ti.
การวิเคราะห์องค์ประกอบเปิดเผยการดำรงอยู่ของระบอบการปกครองที่สามการเจริญเติบโตที่แตกต่างกัน (i) โซนฉันสอดคล้องกับภาพยนตร์ที่มี metallic- เช่นลักษณะและ
อัตราส่วนอะตอม O / Ti ด้านล่างหนึ่ง; (ii) โซนที่สองกับภาพยนตร์ที่เผยให้เห็นสีรบกวนเหมือนและอัตราส่วนอะตอม O / Ti สูงกว่า 2. ระหว่างทั้งสอง
ภูมิภาคมีการเปลี่ยนโซน T ที่อัตราส่วนอะตอม O / Ti อยู่ระหว่างหนึ่งและสอง ภาพยนตร์ภายในโซนนี้เผยให้เห็นสีน้ำตาล X-ray
การเลี้ยวเบน (XRD) ผลการวิเคราะห์โครงสร้างแสดงให้เห็นวิวัฒนาการจากการผสม Ti (C, O) เฟสที่ต่ำ O / อัตราส่วน Ti เพื่อเสมือนสัณฐาน
โครงสร้างภายในโซน T และ rutile ก้อนไม่ดีและแอนาเทส TiO2 ที่สูงสุด O / อัตราส่วน Ti (โซนที่สอง) เหล่านี้การจัดโครงสร้างที่แตกต่างกัน
เป็นผลมาจากองค์ประกอบที่แตกต่างกันของภาพยนตร์เรื่องนี้มีผลกระทบที่ชัดเจนเกี่ยวกับความต้านทานไฟฟ้าที่มีค่าเพิ่มขึ้นจากประมาณ 7 × 102-2 × 1011 μΩซม.
กับการเพิ่มวงเงิน O / อัตราส่วน Ti แปลงฟูริเยร์อินฟราเรด (FTIR) ถูกนำมาใช้เพื่อยืนยันลักษณะที่แตกต่างของโครงสร้างภาพยนตร์และ
จึงให้เข้าใจถึงการเปลี่ยนแปลงคุณสมบัติของพวกเขา พฤติกรรมที่สังเกตพบว่าในความสัมพันธ์ตรงกับของ XRD

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ภาพยนตร์ ticxoy กับอัตราส่วน O / Ti ต่างๆได้รับเงินโดยดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริงโดยใช้ C ชิ้น incrusted ใน Ti เป้าหมายการกัดเซาะพื้นที่ .
การวิเคราะห์องค์ประกอบ พบมีอยู่ 3 ระบบการเจริญเติบโตที่แตกต่างกัน : ( ฉัน ) โซนที่ภาพยนตร์ที่มีลักษณะคล้ายโลหะ และอัตราส่วน O
อะตอม / Ti ( ด้านล่าง ; 2 ) โซนที่ 2 กับภาพยนตร์เปิดเผยการแทรกแซงเช่นสีและอัตราส่วน O / Ti มากกว่า 2 อะตอม ระหว่างสองคนนี้
ภูมิภาคมีการเปลี่ยนแปลงโซน T ที่อัตราส่วนอะตอม O / Ti มีระหว่างหนึ่งและสอง ภาพยนตร์ภายในโซนนี้ เปิดเผย สีน้ำตาล การเลี้ยวเบนรังสีเอกซ์
( XRD ) พบว่าผลลักษณะโครงสร้าง วิวัฒนาการจากตีผสม ( C , O ) ระยะที่ลดอัตราส่วน O / Ti , กึ่งสัณฐาน
โครงสร้างภายในโซน T ,และงาน ตกผลึก และ anatase TiO2 ที่รูไทล์สูงสุด O / Ti อัตราส่วน ( เขต 2 ) เหล่านี้แตกต่างกัน โครงสร้างการจัดเรียง
ที่เกิดจากองค์ประกอบที่แตกต่างกันของฟิล์มได้ผลชัดเจนต่อความต้านทานไฟฟ้าที่มีค่าเพิ่มขึ้นจาก 7 × 2 × 102 ชั้นμΩ cm
ที่มีการเพิ่มขึ้นของอัตราส่วน O / Ti .ฟูเรียร์ทรานฟอร์มอินฟราเรดสเปกโทรสโกปี ( FTIR ) ถูกใช้เพื่อเพิ่มเติมยืนยันธรรมชาติที่แตกต่างกันของภาพยนตร์ที่มีโครงสร้างและ
ดังนั้นเพื่อให้เข้าใจคุณสมบัติของการแปรผัน พฤติกรรมที่สังเกตได้ในความสัมพันธ์กับผู้วิเคราะห์ .