Soil N dynamicsNO3− N and NH4+ N we

Soil N dynamics
NO3− N and NH4+ N were the main N forms absorbed by the plants.
N fertilizer applications significantly influenced NO3− N and NH4+ N content, but the changes of the two N forms in the
different soil layer and during growth period were inconsistent.
In previous studies, NH4+ N in the soil profile remained at a low and constant level through the whole growth stage (Zhou et al., 2001),
or peaked in the 0–20 cm soil layer within short term following application of basal N and was less pronounced after topdressing (Liu et al., 2003).
In our study, soil NH4+ N content in the 0–40 cm soil layer increased at the overwintering stage as basal N rate
increased and at booting stage as topdressing N rate increased, and then declined rapidly to its initial level because of the rapid hydrolysis of urea and nitrification (Liu et al., 2003).
As a result, soil NH4+ N content did not differ among treatments at other growth stages.
Moreover, the mobility of NH4+ N was poor, because NH4+ N exists as a positive electrical charge and was easily absorbed by soil colloids (Richter and Roelcke, 2000),
causing little change of NH4+ N at the 40–60 cm soil layer.

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ดินพลวัตไม่มี
NO3- n และ NH4 + N เป็นรูปแบบที่ไม่มีหลักดูดซึมโดยพืช.
ยังไม่มีการใช้งานปุ๋ยอิทธิพลอย่างมีนัยสำคัญ NO3- n และ NH4 + เนื้อหาไม่มี แต่การเปลี่ยนแปลงของทั้งสองยังไม่มีรูปแบบใน
ชั้นดินที่แตกต่างกันและในช่วงระยะเวลาการเจริญเติบโตได้ ที่ไม่สอดคล้องกัน.
ในการศึกษาก่อนหน้านี้ NH4 + N ในรายละเอียดของดินที่ยังคงอยู่ในระดับต่ำและคงที่ผ่านขั้นตอนการเจริญเติบโตทั้ง (Zhou et al., 2001)
หรือแหลมใน 0-20 ซม. ชั้นดินที่อยู่ในระยะสั้นต่อไปนี้การประยุกต์ใช้ฐาน ยังไม่มีและเป็นเด่นชัดหลังจากแต่งหน้า (Liu et al., 2003).
ในการศึกษาของเราดินเนื้อหา NH4 + N ใน 0-40 ซม. ชั้นดินที่เพิ่มขึ้นในขั้นตอน overwintering เป็นอัตราการไม่มีพื้นฐาน
ที่เพิ่มขึ้นและในขั้นตอนการบูตตามอัตราการแต่งหน้าไม่มี เพิ่มขึ้นและจากนั้นลดลงอย่างรวดเร็วในระดับแรกเพราะการย่อยสลายอย่างรวดเร็วของยูเรียและไนตริฟิเค (Liu et al., 2003).
เป็นผลให้ดิน NH4 + เนื้อหาไม่มีข้อความไม่แตกต่างกันระหว่างชุดการทดลองในขั้นตอนการเจริญเติบโตอื่น ๆ .
นอกจากนี้การเคลื่อนไหว ของ NH4 + N เป็นคนยากจนเพราะ NH4 + N อยู่เป็นประจุไฟฟ้าบวกและถูกดูดซึมได้ง่ายโดยคอลลอยด์ดิน (ริกเตอร์และ Roelcke, 2000),
ก่อให้เกิดการเปลี่ยนแปลงเล็ก ๆ น้อย ๆ ของ NH4 + N ที่ 40-60 ซม. ชั้นดิน

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พลศาสตร์ดิน n
3 − n NH4 N เป็นหลักรูปแบบดูดซึมโดยพืช
n การใช้งานปุ๋ยมีผลต่อ 3 − n NH4 N และเนื้อหา แต่การเปลี่ยนแปลงของ N สองรูปแบบในดินชั้นต่างๆ
และในช่วงเวลาการเจริญเติบโตไม่สอดคล้องกัน
ในการศึกษา NH4 ไนโตรเจนในดินอยู่ในระดับต่ำและคงที่ผ่านขั้นตอนการเจริญเติบโตทั้งหมด ( โจว et al . ,2001 ) ,
หรือแหลมใน 0 - 20 ซม. ดินภายในระยะสั้นตามการแรกเริ่ม และน้อยออกเสียงว่า หลังจากแต่งหน้า ( Liu et al . , 2003 )
ในการศึกษาของเรา โรงงานนำดิน N เนื้อหาใน 0 – 40 ซม. ในดินเพิ่มขึ้น overwintering ขั้นตอนแรกเริ่มไนโตรเจนเพิ่มขึ้น และในการบูต
ขั้นตอนการแต่งหน้าไนโตรเจนเพิ่มขึ้นและจากนั้นจะลดลงอย่างรวดเร็วในระดับเริ่มต้น เพราะการย่อยสลายอย่างรวดเร็วของยูเรียและไนตริฟิเคชั่น ( Liu et al . , 2003 )
ผล โรงงานนำดิน ความไม่แตกต่างระหว่างการรักษาในขั้นตอนการเจริญเติบโตอื่น ๆ .
นอกจากนี้ การเคลื่อนไหวของ NH4 N ยากจน เนื่องจาก NH4 N มีประจุไฟฟ้าเป็นบวก และถูกดูดซึมได้ง่ายโดยคอลลอยด์ ( ริกเตอร์ และ roelcke , 2000 ) ,
ก่อให้เกิดการเปลี่ยนแปลงเล็ก ๆน้อย ๆของ NH4 ที่ 40 – 60 เซนติเมตร ดินชั้นล่าง