After deposition, the CH4 gas wastu

After deposition, the CH4 gas was
turned off and the furnace was cooled to room temperature under
the same flow rates of Ar and H2 as the growth stage

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

หลังจากสะสม แก๊ส CH4 มี
เปิดปิด และเตาไม่ระบายความร้อนด้วยอุณหภูมิห้องภายใต้
เหมือนกระแสของ Ar และ H2 เป็นระยะการเจริญเติบโต

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

หลังจากการสะสมก๊าซ CH4 ถูก
ปิดและเตาถูกระบายความร้อนที่อุณหภูมิห้องภายใต้
อัตราการไหลเดียวกันของ Ar และ H2 เป็นระยะการเจริญเติบโต

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

หลังจากการ , ร่างแก๊ส
ปิดเตามันเย็นที่อุณหภูมิห้องภายใต้
เหมือนกัน อัตราการไหล ของ AR และ H2 เป็นขั้นตอนการเจริญเติบโต