The sputtering targets were high-pu

The sputtering targets
were high-purity Pt–10%Rh (U100 mm,99.99 wt.%)
and
Pt (U100 mm,99.99 wt.%)

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

เป้าหมายสปัตเตอร์ มีความบริสุทธิ์สูง Pt – 10% Rh (U100 มม. 99.99 wt.%) และ Pt (U100 มม. 99.99 wt.%)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

เป้าหมายสปัตเตอร์
มีความบริสุทธิ์สูง PT-10% RH (U100 มิลลิเมตรน้ำหนัก 99.99.%)
และ
Pt (U100 มิลลิเมตรน้ำหนัก 99.99.%)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เป้าสปัตเตอริงมีความบริสุทธิ์สูง EN – 10 เปอร์เซ็นต์ ( ลิมม. น้ำหนัก 99.99 % )และPT ( ลิมม. น้ำหนัก 99.99 % )