The mechanism of photocatalysis ove

The mechanism of photocatalysis over titanium dioxide particle was reported (Zhang and Itoh, 2006). The generated electron–hole pairs must be trapped in order to avoid recombination. The hydroxyl ions (OH−) are the likely traps for holes, leading to the formation of hydroxyl radicals which are strong oxidant agents, while the traps for electrons are adsorbed oxygen species, leading to the formation of superoxide species (O2−) which are unstable, reactive and may evolve in several ways.

equation(5)
View the MathML source
Turn MathJax on

equation(6)
View the MathML source
Turn MathJax on

equation(7)
View the MathML source
Turn MathJax on

Barakat et al. (2004) studied the photocatalytic degradation using UV-irradiated TiO2 suspension for destroying complex cyanide with a con-current removal of copper. Results revealed that free copper (10−2 M) was completely removed in 3 h. The co-existence of Cu(II) and CN− enhanced the removal efficiency of both CN− and copper; the removal (%) increased with increase of Cu:CN− molar ratio reaching a complete removal for both copper and cyanide at a ratio of 10:1 (Fig. 15).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

กลไกของการ photocatalysis มากกว่าอนุภาคไทเทเนียมไดออกไซด์เป็นรายงาน (เตียวและอิโตะ 2006) คู่สร้างอิเล็กตรอน – หลุมต้องถูกขังเพื่อหลีกเลี่ยง recombination ประจุไฟฟ้าไฮดรอก (OH−) เป็นกับดักแนวโน้มสำหรับหลุม นำไปสู่การก่อตัวของอนุมูลไฮดรอกซึ่งเป็นตัวแทนในการต้านอนุมูลอิสระที่แข็งแกร่ง ในขณะที่กับดักสำหรับอิเล็กตรอน ออกซิเจน adsorbed พันธุ์ นำไปสู่การก่อตัวของสายพันธุ์ซูเปอร์ออกไซด์ (O2−) ซึ่งไม่เสถียร ปฏิกิริยา และอาจพัฒนาหลายวิธีequation(5)ดูแหล่ง MathMLเปิด MathJaxequation(6)ดูแหล่ง MathMLเปิด MathJaxequation(7)ดูแหล่ง MathMLเปิด MathJaxเที่ยว et al. (2004) ศึกษาลดกระที่ใช้ TiO2 UV irradiated ระงับการทำลายไซยาไนด์ซับซ้อนกับทองแดงกำจัดคอนปัจจุบัน ผลการเปิดเผยว่า ทองแดงฟรี (10−2 M) ถูกเอาออกอย่างสมบูรณ์ใน 3 ชม อยู่ร่วมกันของ Cu(II) และ CN− เพิ่มประสิทธิภาพการกำจัดของ CN− และทองแดง การกำจัด (%) เพิ่มขึ้น ด้วยการเพิ่มขึ้นของอัตราส่วนสบ Cu:CN− ถึงการเอาออกเสร็จสมบูรณ์สำหรับทองแดงและไซยาไนด์ที่อัตราส่วน 10:1 (15 รูป)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

กลไกของโฟโตคะตะไลกว่าอนุภาคไทเทเนียมไดออกไซด์ได้รับการรายงาน (Zhang และ Itoh 2006) ที่สร้างคู่อิเล็กตรอนหลุมจะต้องติดอยู่ในการสั่งซื้อเพื่อหลีกเลี่ยงการรวมตัวกันอีก ไอออนไฮดรอกซิ (OH-) เป็นกับดักหลุมมีแนวโน้มที่จะนำไปสู่การก่อตัวของอนุมูลไฮดรอกซึ่งเป็นตัวแทนสารต้านอนุมูลอิสระที่แข็งแกร่งในขณะที่กับดักสำหรับอิเล็กตรอนดูดซับออกซิเจนสายพันธุ์ที่นำไปสู่การก่อตัวของสายพันธุ์ superoxide (O2-) ซึ่งเป็น ไม่เสถียรปฏิกิริยาและอาจมีวิวัฒนาการในหลายวิธี. สมการ (5) ดูแหล่งที่มา MathML เปิด MathJax ในสมการ (6) ดูแหล่งที่มา MathML เปิด MathJax ในสมการ (7) ดูแหล่งที่มา MathML เปิด MathJax บนBarakat et al, (2004) การศึกษาการย่อยสลายออกไซด์ใช้ UV-ฉายรังสีระงับ TiO2 เพื่อทำลายไซยาไนด์ที่ซับซ้อนที่มีการกำจัด Con-ปัจจุบันของทองแดง ผลการศึกษาพบว่าทองแดงฟรี (10-2 M) จะถูกลบออกอย่างสมบูรณ์ใน 3 ชั่วโมง ผู้ร่วมการดำรงอยู่ของ Cu (II) และ CN- เพิ่มประสิทธิภาพในการกำจัดของทั้งสอง CN- และทองแดง; การกำจัด (%) เพิ่มขึ้นกับการเพิ่มขึ้นของลูกบาศ์ก: อัตราส่วน CN- ถึงการกำจัดที่สมบูรณ์แบบสำหรับทั้งทองแดงและไซยาไนด์ในอัตราส่วน 10: (Fig. 15) 1

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

钛光催化机制的dioxide）是在转录和Itoh reported（张），扫描电子显微镜（2006 KEYS hole）。被困在一个pairs一定顺序重组。”hydroxyl avoid离子（OH -）是领先的，为holes到likely陷阱这是一个强大的hydroxyl基形成的陷阱，而种抗氧化剂electrons镧氧物种，吸附，迷路，是该superoxide到O2 -物种（形成）的不稳定，这可能是在反应性和evolve several方法来资助。（5方程）。MathML的源视图如何在MathJax（6方程）。MathML的源视图如何在MathJax（7方程）。MathML的源视图如何在MathJaxBarakat等人的研究2004）的TiO2悬浮液，使用photocatalytic UV-irradiated destroying）复合体。与一个removal cyanide con-current结果显示是免费的铜。铜（M）是完全2 10−H .在3与删除。co-existence）的Cu（II）和提高效率的removal CN -和CN -铜；两院的increased与removal（%）增长率的molar：CN -铜和铜removal达到A组和A比值在两cyanide。15 Fig 10:1（的）。