Then the oxygen adsorption occurs on semiconductor surfaces and around interfacial region. The energy band bending are subsequently formed and this increases the potential barrier height at the n-n interface
Then the oxygen adsorption occurs on semiconductor surfaces and around interfacial region. The energy band bending are subsequently formed and this increases the potential barrier height at the n-n interface
จากนั้นดูดซับออกซิเจนเกิดขึ้นบนพื้นผิวเซมิคอนดักเตอร์และทั่วภูมิภาค interfacial วงดนตรีพลังงานดัดจะเกิดขึ้นในไม่ช้านี้และเพิ่มความสูงของอุปสรรคที่อาจเกิดขึ้นในอินเตอร์เฟซ NN