Exogenous millimolar H2O2 concentra

Exogenous millimolar H2O2 concentrations kill logarithmically growing E. coli cells ( Imlay and Linn, 1986; Imlay et al., 1988 and Imlay and Linn, 1988). Imlay and Linn (1986) distinguished between H2O2 induced Mode one (1–3 mM H2O2) and Mode two (over 20 mM) killing. Mode one killing was also attributed to DNA damage in Fenton-like reactions. In our results ( Fig. 2), the extra-cellular H2O2 concentrations inducing a slight decrease in concentration were between 0.15 and 1.5 mM with incubation of up to 5 h. Significant reductions occurred after 3 h at 3 mM and 14.7 mM. Why are the H2O2 concentrations for killing F. solani spores much higher than reported for exponential phase E. coli and Jurkat T-cells? In general, it is assumed that fungi have acquired a powerful defence against oxidative stress ( Li et al., 2008 and Medentsev et al., 2001), also to protect themselves from the ROS produced by plants as a defensive response ( Murphy et al., 1998 and Dangl et al., 1996). We think that on one hand, the strong resistance of F. solani spores might be attributed to an antioxidant response developed by them. But on the other hand, it might be due to the strong fungal cell wall. Protection by the cell wall probably induces a steep gradient between intercellular and extra-cellular H2O2. Recent publications report such gradients between outer and intracellular H2O2, or between different intracellular compartments for eukaryotic and prokaryotic cells ( Seaver and Imlay, 2001, Antunes and Cadenas, 2001 and Sousa-Lopes et al., 2004).

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ความเข้มข้น H2O2 บ่อย millimolar ฆ่าเซลล์ E. coli เติบโตแบบลอการิทึม (Imlay และงานผลิต 1986 Imlay et al., 1988 และ Imlay และงาน ผลิต 1988) Imlay และงานผลิต (1986) ระหว่าง H2O2 เกิดโหมดหนึ่ง (1-3 มม. H2O2) และโหมดสอง (กว่า 20 mM) ฆ่า โหมดเดียวฆ่าถูกยังเกิดจากการเสียหายของดีเอ็นเอในปฏิกิริยา Fenton เหมือน ในผลของเรา (Fig. 2), ความเข้มข้น H2O2 โทรศัพท์มือถือนอกที่ inducing ลดลงเล็กน้อยในความเข้มข้นอยู่ระหว่าง 0.15 และ 1.5 มม.กับบ่มถึง 5 h. ลดอย่างมีนัยสำคัญเกิดขึ้นหลังจาก 3 h ที่ 14.7 มม.และ 3 มม. ทำไมมีความเข้มข้นของ H2O2 ฆ่า F. solani เพาะเฟิร์นสูงกว่ารายงานระยะเนน E. coli และ Jurkat T เซลล์ ทั่วไป มันจะสันนิษฐานว่า เชื้อราได้รับป้องกันที่มีประสิทธิภาพกับความเครียด oxidative (Li et al., 2008 และ Medentsev และ al., 2001), นอกจากนี้ยังปกป้องตัวเองจาก ROS ที่ผลิต โดยพืชเป็นการตอบสนองต่อการป้องกัน (al. et เมอร์ฟี 1998 และ Dangl et al., 1996) เราคิดว่า หนึ่งคง ต้านทานแรงของ F. solani เพาะเฟิร์นอาจเกิดจากการตอบสนองของสารต้านอนุมูลอิสระที่พัฒนาขึ้น โดยพวกเขา แต่ในทางกลับกัน อาจเนื่องจากผนังเซลล์เชื้อราแข็งแรง ป้องกัน ด้วยผนังเซลล์อาจก่อให้เกิดการไล่ระดับสีสูงชันระหว่าง H2O2 intercellular และโทรศัพท์มือถือนอก ล่าสุดสิ่งพิมพ์รายงานดังกล่าวไล่ระดับสี ระหว่างภายนอก และ intracellular H2O2 หรือ ระหว่างช่อง intracellular ต่าง ๆ สำหรับเซลล์ prokaryotic และ eukaryotic (Seaver และ Imlay, 2001, Antunes และ Cadenas, 2001 และ Sousa Lopes et al., 2004)

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภายนอก millimolar ความเข้มข้นของ H2O2 ฆ่าลอการิทึมการเจริญเติบโตของเซล E.coli (อิมเลย์และลินน์, 1986. อิมเลย์ et al, 1988 และอิมเลย์และลินน์, 1988) อิมเลย์และลินน์ (1986) พิเศษระหว่าง H2O2 ชักนำโหมดหนึ่ง (1-3 มิลลิ H2O2) และโหมดสอง (กว่า 20 มิลลิ) ฆ่า โหมดหนึ่งเป็นผลมาจากการฆ่ายังเสียหายของดีเอ็นเอในปฏิกิริยาเฟนตันเหมือน ในผลของเรา (รูปที่. 2), ความเข้มข้นของ H2O2 พิเศษโทรศัพท์มือถือที่กระตุ้นให้เกิดการลดลงเล็กน้อยในความเข้มข้นอยู่ระหว่าง 0.15 และ 1.5 มิลลิกับการบ่มถึง 5 ชั่​​วโมง ลดความสำคัญที่เกิดขึ้นหลังจาก 3 ชั่วโมงที่ 3 มิลลิและ 14.7 มิลลิ ทำไมจึงมีความเข้มข้นของ H2O2 ฆ่าเอฟสปอร์ solani สูงกว่ารายงานขั้นตอนการชี้แจงเชื้อ E. coli และ Jurkat T-เซลล์? โดยทั่วไปมันจะสันนิษฐานว่าเชื้อราได้รับการป้องกันที่มีประสิทธิภาพต่อความเครียดออกซิเดชัน (Li et al., 2008 และ Medentsev et al., 2001) นอกจากนี้ยังมีการป้องกันตัวเองจาก ROS ผลิตโดยโรงงานเป็นการตอบสนองการป้องกัน (เมอร์ฟี่, et al ., 1998 และ Dangl et al., 1996) เราคิดว่าบนมือข้างหนึ่ง, ความต้านทานที่แข็งแกร่งของเอฟสปอร์ solani อาจจะนำมาประกอบกับการตอบสนองของสารต้านอนุมูลอิสระที่พัฒนาขึ้นโดยพวกเขา แต่ในทางกลับกันก็อาจจะเป็นเพราะผนังเซลล์ของเชื้อราที่แข็งแกร่ง การป้องกันโดยผนังเซลล์อาจจะก่อให้เกิดการลาดชันระหว่างระหว่างเซลล์และ H2O2 พิเศษโทรศัพท์มือถือ สิ่งพิมพ์ล่าสุดรายงานการไล่ระดับสีเช่น H2O2 ระหว่างด้านนอกและภายในเซลล์หรือระหว่างช่องเซลล์ที่แตกต่างกันสำหรับเซลล์ eukaryotic และโปรคาริโอ (ซีฟเว่อร์และอิมเลย์ 2001 ตูนส์และ Cadenas 2001 และปเปส et al., 2004)

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

พบว่าปริมาณแบตเตอรี่ภายนอกฆ่า logarithmically เติบโต E . coli เซลล์ ( อิมเลย์ และ ลินน์ , 1986 ; อิมเลย์ et al . , 1988 และอิมเลย์ และ ลินน์ , 1988 ) อิมเลย์ และ ลินน์ ( 1986 ) ที่แตกต่างระหว่างแบตเตอรี่และโหมด ( 1 – 3 mM H2O2 ) และโหมดสอง ( 20 มม. ) ฆ่า โหมดที่ 1 ฆ่า ก็เกิดจากความเสียหายของดีเอ็นเอในเฟนตันเหมือนปฏิกิริยา ในผลของเรา ( รูปที่ 2 )เพิ่มความเข้มข้นของเซลล์กระตุ้นแบตลดลงเล็กน้อยในความเข้มข้นระหว่าง 0.15 และ 1.5 มม. มี 4 ถึง 5 ชั่วโมง ที่สำคัญซึ่งเกิดขึ้นหลังจาก 3 ชั่วโมง 3 มม. และ 14.7 mm ทำไมปริมาณ H2O2 ฆ่า F . solani สปอร์สูงกว่ารายงานชี้แจงขั้นตอนและเซลล์ E . coli jurkat ? โดยทั่วไปเป็นสันนิษฐานว่าเชื้อราได้รับการป้องกันที่มีประสิทธิภาพต่อภาวะเครียดออกซิเดชัน ( Li et al . , 2008 และ medentsev et al . , 2001 ) นอกจากนี้ เพื่อปกป้องตัวเองจาก ROS ที่ผลิตโดยพืชที่ตอบสนองการป้องกัน ( Murphy et al . , 1998 และ dangl et al . , 1996 ) เราคิดว่าหนึ่งในมือ , ความต้านทานที่แข็งแกร่งของ F . solani สปอร์อาจจะเกิดจากสารต้านอนุมูลอิสระการตอบสนองที่พัฒนาโดยพวกเขาแต่ในทางกลับกัน มันอาจจะเกิดจากแรงของผนังเซลล์เชื้อรา ป้องกันผนังเซลล์อาจทำให้ความลาดชันระหว่าง intercellular H2O2 เซลล์และเสริม รายงานสิ่งพิมพ์ล่าสุดไล่ดังกล่าวระหว่างด้านนอกและภายในเซลล์แบตเตอรี่ หรือระหว่างช่องเซลล์ eukaryotic เซลล์โพรคาริโอติกแตกต่างกันและ ( ซีเวอร์กับอิมเลย์ , 2001 , แอนทูเนส และสตริง ,2001 และซูซา Lopes et al . , 2004 )