Metal plasma immersion ion implanta

Metal plasma immersion ion implantation and deposition (MePIIID) is a method, where metallic ions emanating from a cathodic arc are deposited onto a sample, intermittently pulsed to negative high voltage pulses. Thus, a fast coating of three-dimensional samples with excellent adhesion properties is possible at low temperatures. Albeit, the homogeneity and the ion incident angle are strongly dependent on the process conditions, i.e. cathode material, gas backfill, sample size and pulse voltage. Corresponding experiments for AlN, TiN, Ti and Al using pulse voltages of up to 10 kV and different flat sample holders are presented. In the discussion, an attempt to assess the relative importance of the process parameters is made.

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

โลหะพลาสม่าแช่ไอออนประดิษฐ์และสะสม (MePIIID) คือ วิธีการ ที่ที่ฝากกันโลหะที่เกิดจากการอาร์ค cathodic บนตัวอย่าง สูงเป็นระยะ ๆ การพัลส์แรงดันสูงค่าลบ ดังนั้น สารเคลือบผิวอย่างรวดเร็วตัวอย่างสามมิติมีคุณสมบัติยึดเกาะดีเยี่ยมได้ที่อุณหภูมิต่ำ แม้ว่า homogeneity และมุมปัญหาไอออนเป็นอย่างยิ่งขึ้นอยู่กับเงื่อนไขกระบวน เช่นวัสดุแคโทด แก๊ส backfill ตัวอย่างขนาด และแรงดันชีพจร ทดลองสอดคล้องกันสำหรับ AlN ดีบุก ตี้ และอัลที่ใช้แรงดันชีพจรถึง 10 kV และใส่แบนอย่างแตกต่างกันจะแสดง ในการอภิปราย เป็นทำความพยายามในการประเมินความสำคัญของพารามิเตอร์กระบวนการ

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

พลาสม่าโลหะฝังไอออนแช่และการสะสม (MePIIID) เป็นวิธีที่ไอออนโลหะเล็ดลอดออกมาจากโค้ง cathodic จะฝากไปยังกลุ่มตัวอย่าง, ชีพจรเป็นระยะ ๆ เพื่อพัลส์แรงดันสูงในเชิงลบ ดังนั้นการเคลือบอย่างรวดเร็วตัวอย่างสามมิติที่มีคุณสมบัติการยึดเกาะที่ดีเยี่ยมเป็นไปได้ที่อุณหภูมิต่ำ แม้ว่าความเป็นเนื้อเดียวกันและมุมไอออนเหตุการณ์ที่เกิดขึ้นเป็นอย่างมากขึ้นอยู่กับสภาพกระบวนการวัสดุแคโทดคือการทดแทนก๊าซขนาดตัวอย่างและแรงดันชีพจร การทดลองที่สอดคล้องกันสำหรับ ALN ดีบุก Ti และอัลโดยใช้แรงดันไฟฟ้าที่พัลส์ได้ถึง 10 กิโลโวลต์และที่แตกต่างกันของผู้ถือตัวอย่างแบนจะถูกนำเสนอ ในการอภิปรายเป็นความพยายามที่จะประเมินความสำคัญของพารามิเตอร์กระบวนการที่จะทำ

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

โลหะฝังไอออนในพลาสมา ( mepiiid ) เป็นวิธีการที่ไอออนโลหะ emanating จากอาร์คเหล็กจะฝากลงบนตัวอย่างจังหวะการกะพริบเพื่อลบแรงดันสูง . ดังนั้น การเคลือบรวดเร็วตัวอย่างสามมิติ ด้วยคุณสมบัติการยึดเกาะที่ยอดเยี่ยมที่สุดที่อุณหภูมิต่ำ แม้ว่าความเป็นเนื้อเดียวกันและไอออนมุมขอขึ้นอยู่กับสภาวะของกระบวนการ เช่น แคโทดวัสดุในก๊าซ ขนาดตัวอย่าง และแรงดันชีพจร การทดลองที่สอดคล้องกันสำหรับ ALN , ดีบุก , Ti และอัลโดยใช้พัลส์แรงดันไฟฟ้าได้ถึง 10 กิโล และ ถือ ตัวอย่างแบนที่แตกต่างกันจะนำเสนอ ในการอภิปราย , การพยายามที่จะประเมินความสำคัญสัมพัทธ์ของพารามิเตอร์ของกระบวนการผลิต .