Here, typical pulse lengths of 10–4

Here, typical pulse lengths of 10–400 µs are used with pulse frequencies in the
range of 50–500 Hz, yield a duty cycle around 0.5–5% at instantaneous power densities larger than 1 kW/cm2 . At these greatly enhanced power densities, ionization of sputtered atoms occurs much more frequently than in conventional magnetron sputtering, thus increasing the fraction of ionized sputter material and reducing the necessary amount of sputter gas .

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

นี่ ใช้ความยาวของชีพจรปกติของ µs 10-400 กับพัลส์ความถี่ในการ
ช่วง 50-500 Hz ผลตอบแทนที่หน้าที่วงจรรอบ 0.5 – 5% ที่ความหนาแน่นกำลังไฟฟ้ามากกว่า 1 กิโลวัตต์/cm2 ที่ความหนาแน่นเหล่านี้กำลังเพิ่มมากขึ้น ionization ของอะตอม sputtered เกิดขึ้นมากมากกว่าบ่อยใน magnetron ธรรมดาพ่น ดังนั้นเศษวัสดุ ionized sputter เพิ่ม และลดจำนวน sputter ก๊าซจำเป็น

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ที่นี่ความยาวชีพจรปกติของ 10-400 μsจะใช้กับความถี่พัลส์ใน
ช่วงของ 50-500 เฮิรตซ์ผลผลิตรอบหน้าที่รอบ 0.5-5% ที่ความหนาแน่นพลังงานทันทีมีขนาดใหญ่กว่า 1 kW/cm2 ที่ความหนาแน่นพลังงานเหล่านี้เพิ่มขึ้นอย่างมากไอออนไนซ์ของอะตอม sputtered เกิดขึ้นมากขึ้นบ่อยกว่าในสปัตเตอร์แมกทั่วไปซึ่งจะเป็นการเพิ่มส่วนของวัสดุที่พ่นไอออนและลดจำนวนเงินที่จำเป็นของก๊าซพ่น

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

ที่นี่ปกติชีพจรยาว 10 – 400 µ S ใช้กับชีพจรความถี่ในช่วง 50 - 500 Hz
ผลผลิตหน้าที่บริเวณรอบ 0.5 – 5% ทันที พลังที่มีขนาดใหญ่กว่า 1 กิโลวัตต์ / cm2 ที่เหล่านี้มากเพิ่มความหนาแน่นของพลังงานไอออไนเซชัน , sputtered อะตอมเกิดขึ้นมากขึ้นบ่อยกว่าปกติ แมกนีตรอนสปัตเตอริงใน ,ดังนั้น การเพิ่มสัดส่วนของประจุละล่ำละลักวัสดุและลดปริมาณมิดหมีเป็นก๊าซ