The annealed silica thin films were

The annealed silica thin films were characterized by the surface
roughness studies, Fourier transform infrared (FT-IR) spectroscopy,
% of optical transmission, scanning electron microscopy
(SEM) and contact angle measurements. The surface roughness of
the film

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

ฟิล์มบางของซิลิก้าอบมีลักษณะพื้นผิวศึกษาความหยาบ อินฟราเรด (IR ฟุต) สเปกโทรสโก แปลงฟูเรียร์%ของการส่งผ่านแสง การสแกนชาวดัตช์(SEM) และติดต่อวัดมุม พื้นผิวที่ขรุขระของภาพยนตร์เรื่องนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

ภาพยนตร์บางอบซิลิกาโดดเด่นด้วยพื้นผิว
ศึกษาหยาบฟูเรียร์อินฟาเรด (FT-IR) สเปคโทร
% ของการส่งผ่านแสงกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน
(SEM) และการวัดมุมสัมผัส พื้นผิวขรุขระของ
ภาพยนตร์เรื่องนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อบฟิล์มซิลิกาที่เป็นลักษณะพื้นผิวการศึกษาของฟูเรียร์ทรานฟอร์มอินฟราเรดสเปกโทรสโกปี ( FT-IR ) ,% การส่งผ่านแสง กล้องจุลทรรศน์อิเลคตรอนแบบส่องกราด( SEM ) และการวัดมุมสัมผัส ความหยาบผิวของภาพยนตร์