Influence of deposition temperature

Influence of deposition temperature on the microstructure and
thermoelectric properties of antimonide cobalt thin films prepared
by ion beam sputtering deposition

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

อิทธิพลของอุณหภูมิสะสมต่อโครงสร้างจุลภาค และคุณสมบัติแบบเทอร์โมอิเล็กทริกส์ของ antimonide โคบอลต์ฟิล์มบาง ๆ เตรียมไว้โดยคานไอออนพ่นสะสม

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

อิทธิพลของอุณหภูมิในการสะสมจุลภาคและ
คุณสมบัติของเทอร์โมโคบอลต์ฟิล์มบาง antimonide จัดทำ
โดยลำแสงไอออนการสะสมสปัตเตอร์

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

อิทธิพลของอุณหภูมิการต่อโครงสร้างจุลภาคและสมบัติของเทอร์โม
antimonide โคบอลต์ ฟิล์มที่เตรียมโดยการสปัตเตอร์
ลำแสงไอออน