Being the Si4+ formed easily elimin

Being the Si4+ formed easily eliminated from the surface in the form of silicates.

In fact the most used oxidizer is H2O2, which has a reduction potential (E°) of 1.77 eV in acidic media and 0.87 eV in basic media following the reactions:

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

Si4 + เกิดง่ายถูกตัดออกจากพื้นผิวในรูปของไนในความเป็นจริง oxidizer ใช้มากที่สุดคือ H2O2 ซึ่งมีการลดศักยภาพ (E °) 1.77 eV ในสื่อที่เป็นกรดและ 0.87 eV พื้นฐานสื่อต่อปฏิกิริยา:

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

เป็น si4 + รูปแบบได้อย่างง่ายดายตัดจากพื้นผิวในรูปแบบซิลิเกต .ในความเป็นจริงที่ใช้มากที่สุดคือ H2O2 การสันดาป ซึ่งมีการลดศักยภาพ ( E / 1.77 eV ) ในสื่อที่เป็นกรดและ 0.87 EV ในสื่อพื้นฐานตามปฏิกิริยา :