Although the basic sputtering proc

 Although the basic sputtering process has been known and used for many years, it is the development of the unbalanced magnetron and its incorporation into multi-source `closed-field’ systems that have been responsible for the rise in importance of this technique. 

ผลลัพธ์ (ไทย) 1:

แม้ว่ากระบวนการสปัตเตอร์ขั้นพื้นฐานได้รับการรู้จักและใช้เวลาหลายปีก็คือการพัฒนาของแมกไม่สมดุลและการรวมเข้าไปในหลายแหล่ง `ระบบปิดสาขาที่ได้รับความรับผิดชอบสำหรับการเพิ่มขึ้นในความสำคัญของเทคนิคนี้

ผลลัพธ์ (ไทย) 2:

 แม้ว่าการ sputtering พื้นฐานได้รับการรู้จักกัน และใช้เวลาหลายปี เป็นการพัฒนาของ magnetron สมดุลและการประสานระบบ 'ปิดเขต' หลายแหล่งที่มีการรับผิดชอบเพิ่มขึ้นในความสำคัญของเทคนิคนี้ 

ผลลัพธ์ (ไทย) 3:

แม้ว่าการละล่ำละลักพื้นฐานที่เป็นที่รู้จักและใช้งานเป็นเวลาหลายปีมีการพัฒนาของ magnetron แบบ unbalanced ได้และรวมเข้าเป็นแบบมัลติ - แหล่ง'ปิด - ฟิลด์'ระบบที่ได้มีการรับผิดชอบในการเพิ่มความสำคัญของเทคนิคนี้